[实用新型]一种分布光度计

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及一种光和辐射的测量仪器，主要用于各种光源和灯具在空间各个方向上光强分布测量，以及光源和灯具的总光通量测量。

【背景技术】

转镜式分布光度计由于能在保持被测光源测量姿态不变的情况下实现长测量距离，而在工业上广泛应用于各种光源和灯具的光强分布和光通量测量。杂散光控制水平是分布光度计的最重要的性能指标之一，杂散光主要由分布光度计的旋转工作台、反射镜、墙壁和地面等表面的一次或多次反射造成，会对测量精度产生很大的影响。在转镜式分布光度计系统中，现有的消杂散光的措施包括：旋转工作台表面和实验室的墙壁、地板和天花板涂黑；在光学反射镜与探测器之间设置光阑或其它挡光装置；在探测器前设置消光筒等。这些消杂光措施的目的在于使探测器仅能“看到”光学反射镜中被测光源的像。然而，在分布光度计实验室中，虽然地面等周围环境以及旋转工作台本身等已被涂黑，但这些表面仍具有一定的反射性，还会通过反射形成较多的杂散光进入探测器，影响了测量精度。

在测量光路中适当地使用光阑是有效减少杂散光的一种办法，但是在反射镜绕被测灯旋转的转镜式分布光度计中，由于测量光束围绕圆锥变化，设置圆环形通光孔的光阑能减少环境反射而引起的杂散光，但圆环通光孔的面积仍比测量光束的边光所围成的面积要大，因此该圆环形光阑消杂散光效果有待进一步提高。

采用与反射镜同步旋转、具有光阑通光孔的旋转光阑是比较好的消杂光的方法。但该旋转光阑的实现难点在于，旋转光阑在系统中应具有较低的反射性，否则旋转光阑本身与其它设备发生反射会进入测量光路引入杂散光；驱动旋转光阑旋转的装置在任何测量方向上都不应遮挡被测光束而影响测量精度；旋转光阑应与旋转的反射镜具有较高的同步精度，否则旋转光阑会由于不同步而造成遮挡测量光线的情况；旋转光阑及其支撑机构应具有稳定的结构，旋转光阑始终沿固定轨道旋转。这些条件对旋转光阑的设置提出了较高的要求，现有的旋转光阑并不能同时满足上述要求，因此旋转光阑并没有在现有的转镜分布光度计系统中得到较好的应用。

【实用新型内容】

为了克服现有转镜式分布光度计方案中存在的上述缺陷，本实用新型旨在提供一种分布光度计，能进一步减少由周围环境和分布光度计本身的反射带来的杂散光，从而有效提高测量精度。

本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的，即：第一基座、第二基座和水平主轴线，第一基座上设置有绕主轴线旋转的第一转臂，第一转臂的一端安装有第一反射镜，被测光源的垂直旋转轴线经过第一反射镜的中心且与主轴线垂直相交，其特征在于在第二基座上设置同步于第一转臂绕主轴线旋转的同步转轴，同步转轴的旋转驱动机构位于第二基座内，同时在第二基座上设置垂直于主轴设置的第二反射镜和/或与同步转轴相连的第二探测器，同步转轴与第二转臂相连，所述第二反射镜和/或第二探测器处于同步转轴与第二转臂的连接点的第一基座一侧，第二转臂上连接有伸向第一基座方向的支撑臂，支撑臂上设置一个或一个以上开有通光孔的旋转光阑，旋转光阑位于第一基座和第二基座之间，主轴线穿过旋转光阑。

在本实用新型中，旋转光阑将第一基座和第二基座之间的光路隔断，仅留下必要的通光孔使测量光束通过，有效隔离非测量光束进入测量光路，大幅减小了杂散光；本实用新型的旋转光阑的旋转驱动机构在第二基座上，处于所述第二反射镜和/或第二探测器的第二基座一侧(背面方向)，一方面能够方便精确地实现与第一反射镜的同步转动；另一方面也能避免了旋转驱动机构的挡光，同时通过支撑臂的支撑，旋转光阑可以设置在距第一基座和第二基座较远的地方，减小了旋转光阑本身反射带来的杂散光。

本实用新型可以通过以下的技术特征作进一步限定和完善：

上述的第二基座上设置第二反射镜，第二反射镜与主轴线垂直相交于第二反射镜的中心。

在上述技术方案中，第二反射镜可以与第二转臂相连，同时在第一转臂上、第一反射镜的另一端设置接收来自第二反射镜光束的第一探测器，第一探测器的受光面正对第二反射镜，所述每个旋转光阑上具有两个通光孔，第一通光孔位于从第一反射镜到第二反射镜之间的光路上，第二通光孔位于从第二反射镜到第一探测器之间的光路上。

上述的分布光度计也可采用另一种方案：第二基座的第二转臂上连接第二探测器，第二探测器的光轴与主轴线成一定角度相交，从被测光源发出的光经过第一反射镜后正入射第二探测器。所述的每个旋转光阑上具有一个通光孔，该通光孔位于从第二反射镜到探测器之间的光路上。