[实用新型]基于近场光学行波吸收的痕量物质分析装置无效

专利信息
申请号: 200920124432.8 申请日: 2009-07-10
公开(公告)号: CN201429564Y 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 高秀敏 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G01N21/17 分类号: G01N21/17
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 杜 军
地址: 310018浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 基于 近场 光学 行波 吸收 痕量 物质 分析 装置
【权利要求书】:

1、基于近场光学行波吸收的痕量物质分析装置,包括光源、光束准直整形器、近场光学行波腔、第一反射镜、第二反射镜、光电传感器、移动部件,其特征在于:光源的出射光束光路上依次设置有光束准直整形器和近场光学行波腔;所述的近场光学行波腔为等腰三角形棱镜,两个腰面为高反射率反射面,底面为内全反射面,测试区为底面内全反射的光学近场区域;光束准直整形器的出射光束由第一腰面入射近场光学行波腔,入射方向与等腰三角形棱镜底面平行,在第一腰面、第二腰面和底面构成的近场光学行波高精细度腔内形成光学行波,由第二腰面出射;近场光学行波腔的第二腰面出射光束光路上依次平行设置有的第一反射镜和第二反射镜,第一反射镜和第二反射镜均与光束传播方向垂直,第一反射镜的反射面和第二反射镜的反射面相对,第一反射镜和第二反射镜构成法珀腔;光电传感器设置在第二反射镜的光束出射一侧的光路上;移动部件与第二反射镜连接,带动第二反射镜沿光束方向移动,调节第一反射镜和第二反射镜的间距。

2、如权利要求1所述的基于近场光学行波吸收的痕量物质分析装置,其特征在于:所述的光源为半导体激光器、固体激光器、气体激光器、液体激光器的一种。

3、如权利要求1所述的基于近场光学行波吸收的痕量物质分析装置,其特征在于:所述的准直整形器是伽利略型准直整形器、开普勒型准直整形器中的一种。

4、如权利要求1所述的基于近场光学行波吸收的痕量物质分析装置,其特征在于:所述的光电传感器为光电二极管、雪崩管、光电倍增管中的一种。

5、如权利要求1所述的基于近场光学行波吸收的痕量物质分析装置,其特征在于:所述的移动部件为步进电机、压电陶瓷位移器、纳米位移元件中的一种。

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