[实用新型]采用显微悬浮式镶嵌结构的镶钻首饰有效
申请号: | 200920131631.1 | 申请日: | 2009-05-07 |
公开(公告)号: | CN201499723U | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 吴峰华 | 申请(专利权)人: | 深圳市大凡珠宝首饰有限公司 |
主分类号: | A44C17/02 | 分类号: | A44C17/02 |
代理公司: | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人: | 易钊 |
地址: | 518029 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 采用 显微 悬浮 镶嵌 结构 首饰 | ||
技术领域
本实用新型属于珠宝首饰领域。更具体地说,涉及一种采用显微悬浮式镶嵌结构的镶钻首饰。
背景技术
众所周知,钻石是十分珍贵的珠宝。钻石以其罕有珍贵、至真至纯、质地最硬、永不磨损、清澈透明、光芒璀璨、火彩如电、性能稳定、磨面光亮、永远如镜的特点博得人类的厚爱。作为镶嵌钻石的载体,首饰的结构起着非常重要的作用。现有技术中,显微镶嵌结构的镶钻首饰采用平面铲边式,结构较为简单(如图1所示),不能突出钻石的视觉美感。
实用新型内容
本实用新型的目的在于,针对现有技术的上述缺陷,提供一种采用显微悬浮式镶嵌结构的镶钻首饰,其突出了钻石的视觉美感,从而更具有视觉冲击力。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:构造一种采用显微悬浮式镶嵌结构的镶钻首饰,其包括镶座,镶座以切除两侧的方式形成有凸起部,凸起部上开有若干个镶口。
作为本实用新型的优选技术方案,凸起部的高度为0.3mm。
作为本实用新型的优选技术方案,凸起部布置在镶座的中央处。
作为本实用新型的优选技术方案,镶座的底部宽度为2.1mm。
作为本实用新型的优选技术方案,镶口均匀布置。
作为本实用新型的优选技术方案,在前述的镶钻首饰中,镶座呈环状,镶口上镶嵌有钻石。
作为本实用新型的优选技术方案,在前述的镶钻首饰中,镶钻首饰为以下首饰中的一种:戒指、吊坠、耳钉、手镯、手链、项链。
实施本实用新型的采用显微悬浮式镶嵌结构的镶钻首饰,具有以下有益效果:本实用新型设有凸起部,突出了钻石的视觉美感,使其更具有视觉冲击力。此外,本实用新型实用、操作简单,便于推广使用。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明,附图中:
图1为表示传统的采用平面铲边式的镶钻首饰的显微镶嵌结构的立体示意图;
图2为表示作为本实用新型的优选实施例的显微悬浮式镶嵌结构的俯视示意图;
图3为表示作为本实用新型的优选实施例的显微悬浮式镶嵌结构的立体示意图;
图4为表示作为本实用新型的优选实施例的显微悬浮式镶嵌结构的俯视示意图,其中镶座上镶嵌有钻石;
图5为表示采用本实用新型的显微悬浮式镶嵌结构的手镯的示意图。
具体实施方式
如图2至4所示,作为本实用新型的优选实施的采用显微悬浮式镶嵌结构的镶钻首饰包括镶座1。镶座1以切除两侧的方式形成有凸起部2。凸起部2上开有若干个镶口3。更具体地说,在每个镶口3的两侧切除宽0.3mm深0.3mm的方块,突出中间镶嵌部位(即凸起部2)。镶座1的宽度比凸起部2的宽度大。镶口3用于镶嵌钻石4。优选的是,凸起部2的高度为0.3mm。此外,凸起部2布置在镶座1的中央处。这样,通过镶口3的两侧铲出了宽0.3mm、深0.3mm的两条边道,从而突出中间的钻石镶嵌部位。另外,镶座1的底部宽度可以为2.1mm,即比凸起部2的宽度大0.6mm,凸起部2的宽度为1.5mm。因此,采用显微悬浮式镶嵌结构的镶钻首饰的截面大致呈凸字形。在凸起部2的中央处,镶口3均匀地布置。镶口3上镶嵌有钻石4。镶钉5用于将钻石4固定在采用显微悬浮式镶嵌结构的镶钻首饰上。另外,优选的是,镶口3的直径为1.5mm,也可根据钻石的大小相应调整镶口3的尺寸。该悬浮镶嵌工艺适用于0.03ct/粒以下的圆形钻石、彩宝等显微群镶首饰,如:戒指、吊坠、耳钉、手镯、手链等。需要说明的是,附图仅为示意图,镶座1可以是呈块状,也可以呈环状或者其它带曲面的立体状。这里,通过截取镶座1的一段并以示意图的形式说明本实用新型的结构。图5示意性地示出了采用悬浮式镶嵌结构的手镯。本实用新型中的镶嵌结构属于一种精密结构,在镶嵌钻石时需要在显微镜下进行操作,而且所有镶嵌的钻石台面将悬浮裸露在两条侧边之上,因此称为显微悬浮式镶嵌结构。这是一种新的镶嵌工艺,相比较于目前流行的显微群镶,同等份数的钻石将显得更大,而且火彩更强烈,是镶嵌工艺的又一个创举。
应当注意的是,上述优选实施方式仅是示例性的,而绝非用来限制本实用新型。例如,还可在镶座1的下方设置另一镶座,以呈现出一种层次感,以使钻石更加突出。本实用新型的保护范围由所附权利要求限定。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市大凡珠宝首饰有限公司,未经深圳市大凡珠宝首饰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920131631.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。