[实用新型]监控靶面状态的装置

权利要求书

1.一种监控靶面状态的装置，包括检测等离子体表面光强的光纤系统、光电倍增器、磁控溅射阴极，其特征在于：还包括监控镀膜靶面状态的等离子光谱监控系统以及控制反应气体的气体控制系统，所述等离子光谱监控系统根据光纤系统传输的监控信号向气体控制系统发出指令控制压电阀的开度，从而控制反应气体流量。

2、根据权利要求1所述的监控靶面状态的装置，其特征在于，所述等离子光谱监控系统包括信息接收模块和信息处理模块，所述信息接收模块接收光电倍增器传输来的光纤系统检测的等离子体表面光强的信息，所述信息处理模块对所述信息接收模块接收的信息进行分析处理。

3、根据权利要求1所述的监控靶面状态的装置，其特征在于，所述气体控制系统的气管为二进制分布，所述二进制分布的气管在磁控溅射阴极末端和中间部分分别控制。

4、根据权利要求3所述的监控靶面状态的装置，其特征在于，所述控制磁控溅射阴极末端和中间部分气管的装置为压电阀门。

5、根据权利要求3所述的监控靶面状态的装置，其特征在于，所述磁控溅射阴极中间部分的气管分布为多层。

6、根据权利要求5所述的监控靶面状态的装置，其特征在于，所述多层气管分布为二进制分布，即第一层分隔成2¹个独立空间，由2¹个进气管分别供气，第二层分隔成2²个独立空间，由2²个进气管分别供气，依次类推，至符合气体控制系统需要为止。