[实用新型]活动式眼镜组无效

专利信息
申请号: 200920150576.0 申请日: 2009-05-11
公开(公告)号: CN201402348Y 公开(公告)日: 2010-02-10
发明(设计)人: 吕学裕 申请(专利权)人: 吕学裕
主分类号: G02C3/02 分类号: G02C3/02;A42B1/24
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 活动 眼镜
【说明书】:

技术领域

一种活动式眼镜组,尤指可供使用者装设于帽檐处并调整装设位置的眼镜组。

背景技术

由于生活水平的不断提升,使人们所进行的户外运动、休闲、旅游的时间日益增加,而户外活动或开车时常会碰到阳光直射刺眼的情况,故往往需戴上太阳眼镜,来遮挡部分阳光,然而,当戴上太阳眼镜时会产生视距减,且太阳光并非一直直射眼睛,所以当太阳不会刺眼时,又得常常卸下,而导致有脱戴及储存频繁的困扰,且一般太阳眼镜暂时卸戴及携储也不够迅速便利,而容易产生安全与错失时机的问题,因此,即有相关业者将太阳眼镜直接固设于帽檐,以让使用者可直接翻动帽檐上的镜片来选择使用,但太阳眼镜直接设置于帽檐上其构造相当复杂且制造成本高,加上若使用者必须戴不同功能或外观的帽子时,则必须于每个帽子上设置太阳眼镜,造成使用成本的增加。

发明内容

本实用新型的主要目的乃在于,利用磁力吸附让使用者可将眼镜组装设于不同的帽檐上,以降低使用者的使用成本,且眼镜组的结构简单,可有效降低成本,进而减低售价增加消费者的购买欲望。

为达上述目的,本实用新型的一种活动式眼镜组,装设于帽檐处,该眼镜组设置有定位装置及眼镜,该定位装置设置有第一定位块及第二定位块,而该第一定位块与第二定位块为由磁力相互吸引,并分别定位于预设的该帽檐的上下表面,且该第二定位块的一侧表面为凸设有枢接部;该眼镜设置有镜架,而该镜架一端为枢接于该第二定位块的枢接部,且于远离该枢接部的另端二侧为分别装设有镜片。

本实用新型达到的有益技术效果在于,利用磁力吸附让使用者可将眼镜组装设于不同的帽檐上,以降低使用者的使用成本,且眼镜组的结构简单,可有效降低成本,进而减低售价增加消费者的购买欲望。

附图说明

图1为本实用新型的立体外观图;

图2为本实用新型的立体分解图;

图3为本实用新型的使用状态图(一);

图4为本实用新型的使用状态图(二);

图5为本实用新型又一实施例的使用状态图;

图6为本实用新型另一实施例的使用状态图;

图7为本实用新型再一实施例的使用状态图。

附图标记说明:

1-定位装置;11-第一定位块;111-侧板;12-第二定位块;121-枢接部;1211-插接孔;2-眼镜;21-镜架;211-对接孔;22-镜片;3-轴杆;4-帽檐;5-装饰品。

具体实施方式

请参阅图1及图2所示,由图中可清楚看出,本实用新型的眼镜组设置有定位装置1及眼镜2,其中:

该定位装置1设置有第一定位块11及第二定位块12,而第一定位块11与第二定位块12为可由磁力相互吸引,且第二定位块12的一侧表面为凸设有枢接部121,并于枢接部121上间隔并排设置有二插接孔1211。

该眼镜2设置有镜架21,而镜架21一端为设置有对接孔211,且于远离对接孔211的另端二侧为分别装设有镜片22,并使对接孔211为位于二插接孔1211的间,且对接孔211与插接孔1211内为穿设有轴杆3,使对接孔211与插接孔1211呈枢接状。

请参阅图1及图3所示,由图中可清楚看出,当使用者于使用本创作时,先将第一定位块11置放于帽檐4上方表面,而第二定位块12置于帽檐4下方表面,此时,第一定位块11与第二定位块12为会由磁力相互吸引,进而夹挤于帽檐4上下表面形成定位,由此,使用者即可扳动眼镜2的镜架21或镜片22,而让镜架21于第二定位块12的枢接部121上转动,使镜片22可朝向帽檐4底面靠近或远离,以方便使用者使用或收起。

再者,该第一定位块11与第二定位块12可分别为磁铁或可受磁铁磁力吸引的金属所制成,也可全都使用磁铁所制成。

请参阅图4所示,由图中可清楚看出,当使用者长时间不需使用眼镜2时为可将第一定位块11置放于帽檐4下方表面,而第二定位块12置于帽檐4上方表面,使眼镜2收纳于帽檐4上方,以方便使用者收纳。

请参阅图5所示,由图中可清楚看出,该第一定位块11一侧为向上延设有侧板111,俾使侧板111表面可由磁力吸附使用者所欲置放的标示或物品,且该侧板111可为具形状的造型板。

请参阅图6所示,由图中可清楚看出,该第一定位块11为可设计成具造型的第一定位块11,以让使用者所戴的帽子更加美观。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吕学裕,未经吕学裕许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920150576.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top