[实用新型]消光性聚合物薄膜结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种聚合物薄膜结构，特别是一种可作为电路板的保护膜且具有消光层的聚合物薄膜结构。

背景技术

聚酰亚胺薄膜(Polyimide Film)是在高性能薄膜材料中具有较高的热稳定性、电气性及柔软性的商业化产品，因此成为该领域中不可替代的最主要的基本材料。聚酰亚胺薄膜的高可靠性更是其不可替代的原因之一。目前市场上大部分的聚酰亚胺薄膜为亮光性聚酰亚胺薄膜，例如，为了使聚酰亚胺保护膜具有遮蔽电路布局的功能，在如图1A所示的聚酰亚胺薄膜101之上形成黑色粘着层102。然而，这种结构虽然达到了遮蔽的目的，但是聚酰亚胺薄膜表面的光泽度仍然过亮，无法满足特定光学应用的需求。

为了应市场对消光性聚酰亚胺保护膜的需求，另一种现有结构如图1B所示，该结构使用添加碳粉的黑色聚酰亚胺薄膜101a，并在该黑色聚酰亚胺薄膜101a上形成粘着层102a。以这种方式制造的聚酰亚胺保护膜虽然具有较好的消光效果，但是黑色聚酰亚胺薄膜101a的成本过高，实际量产时不符合需求，而且含有添加物的聚酰亚胺保护膜也存在抗拉强度、尺寸安定性等性质变差的忧虑。

因此，如何在不影响聚合物薄膜的性能的情况下制造低成本且消光性良好的消光性聚合物薄膜是目前仍待解决的课题。

实用新型内容

鉴于上述现有技术的缺点，本发明的目的是提供一种消光性聚合物薄膜结构，以在不影响聚合物薄膜的性能的情况下，同时具有制造低成本且消光性良好的优点和特性。

为达到上述目的及其它目的，本实用新型提供一种消光性聚合物薄膜结构，其包括聚合物薄膜以及在该聚合物薄膜上形成的厚度为1至3微米的消光层，所述消光层包括胶粘剂及分散于该胶粘剂中的选自二氧化硅、二氧化钛或其混合物的消光粉。

在一个具体实施方案中，所述消光层的外侧表面具有粗糙化纹路，且优选地，该纹路为锯齿状或波浪状。

在另一具体实施方案中，本实用新型的消光性聚合物薄膜结构进一步包括在该聚合物薄膜上形成的粘着层，从而使得该聚合物薄膜夹在消光层及粘着层之间，且所述粘着层的厚度介于10至35微米。

在具有粘着层的具体实施方案中，本实用新型的消光性聚合物薄膜结构进一步包括在该粘着层上形成的离形膜，从而使得该粘着层夹在聚合物薄膜及离形膜之间。

本实用新型的消光性聚合物薄膜结构可以在保持聚合物薄膜的高性能的情况下，通过涂布一定厚度的消光性胶水，并在固化该消光性胶水之后使该聚合物薄膜具有光散射性质，进而达到良好的消光效果。

附图说明

图1A显示现有聚酰亚胺保护膜结构。

图1B显示现有消光性聚酰亚胺保护膜结构。

图2A至2C显示本实用新型的消光性聚合物薄膜结构。

图3为本实用新型的消光层涂布设备示意图。

主要元件符号说明

101、101a        聚酰亚胺薄膜

102、102a、202   粘着层

200、200’、200”消光性聚合物薄膜结构

201、314         聚合物薄膜

203              消光层

204              离形膜

205              纹路

300              涂布设备

311              容槽

312              含浸滚轮

313    刮涂装置

具体实施方式

以下通过特定的具体实施方案说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本实用新型的优点及功效。本实用新型也可以其它不同的方式实施，即，在不背离本实用新型所揭示的范围内进行不同的修改与改变。

如图2A所示，其显示本实用新型的消光性聚合物薄膜结构200，该结构包括聚合物薄膜201以及厚度为1至3微米的消光层203，所述消光层203在该聚合物薄膜201上形成，且该消光层包括胶粘剂及分散于该胶粘剂中的选自二氧化硅、二氧化钛或其混合物的消光粉。在一个例子中优选二氧化钛消光粉。

在本实用新型的消光性聚合物薄膜结构中，并不特别限定所使用的聚合物薄膜201材料，通常，该聚合物薄膜201选自聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚对萘二甲酸乙二酯，且该聚合物薄膜201的厚度介于12至25微米。