[实用新型]兼具批次与连续作业的真空装置无效
申请号: | 200920161896.6 | 申请日: | 2009-07-20 |
公开(公告)号: | CN201549480U | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | 黄泳钊;郑博仁;许建志 | 申请(专利权)人: | 北儒精密股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/677 |
代理公司: | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 | 代理人: | 王昭林;崔华 |
地址: | 中国台湾台南*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 兼具 批次 连续 作业 真空 装置 | ||
1.一种兼具批次与连续作业的真空装置,包含:一个腔体,包括上下间隔的一个底壁与一个顶壁、一个连接在所述底壁与顶壁之间的围壁,以及一个由所述底壁、顶壁与围壁共同界定出的腔体空间,其特征在于,所述兼具批次与连续作业的真空装置还包含:
一个批次作业机构,包括一个设置在所述腔体空间的主轴单元、一个连结并驱动所述主轴单元转动的第一动力源,以及至少一个受所述主轴单元带动而运作的从动轴单元;及
一个连续作业机构,设置在所述腔体空间,并包括至少一个输送单元,所述输送单元包括一个第二动力源,以及一个受所述第二动力源驱动而转动的输送轮。
2.根据权利要求1所述的兼具批次与连续作业的真空装置,其特征在于:所述主轴单元包括一支直立延伸的主轴,以及一个与所述主轴连动地组装的主动齿轮,所述第一动力源是一个马达,并连结所述主轴以驱动所述主轴与所述主动齿轮绕自身中心轴线转动。
3.根据权利要求2所述的兼具批次与连续作业的真空装置,其特征在于:所述从动轴单元包括一个与所述主动齿轮啮合的第一齿轮、一个与所述第一齿轮啮合的第二齿轮、一个与所述第二齿轮连动地结合而可受带动而绕自身中心轴线转动并直立延伸的从动轴,以及多个上下间隔地设置在所述从动轴上的置物件。
4.根据权利要求1所述的兼具批次与连续作业的真空装置,其特征在于:所述批次作业机构包括多个彼此间隔并且都连结所述主轴单元且受所述主轴单元带动而运作的从动轴单元,所述腔体的围壁具有多个各别对应所述从动轴单元的安装部。
5.根据权利要求1所述的兼具批次与连续作业的真空装置,其特征在于:所述输送单元还包括一个带动所述输送轮同步转动的传动轮,以及一个连结所述第二动力源及所述传动轮的第一皮带,所述第二动力源带动所述传动轮绕一条水平轴线转动,进而连动所述输送轮绕所述水平轴线转动。
6.根据权利要求5所述的兼具批次与连续作业的真空装置,其特征在于:所述连续作业机构还包括一个水平的基壁、两个自所述基壁的左右两侧向上延伸的侧壁,以及两个左右间隔设置并各别对应所述侧壁的输送单元,所述输送单元的传动轮与输送轮各别位于所述侧壁的内侧及外侧。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造