[实用新型]一种带有内加热器的PECVD系统无效
申请号: | 200920166871.5 | 申请日: | 2009-07-21 |
公开(公告)号: | CN201427992Y | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
发明(设计)人: | 吴文基;郑泽文;刘丽娟 | 申请(专利权)人: | 深圳市宇光高科新能源技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/24 |
代理公司: | 北京安博达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐国文 |
地址: | 518116广东省深圳市龙岗*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 带有 加热器 pecvd 系统 | ||
1、一种带有内加热器的PECVD系统,该系统包括带有进、出气口(20、7)的真空室(1)和置于真空室内可移式等离子箱(2),所述真空室的外周四壁上设有加热板(5),其特征在于:该系统中的可移式等离子箱(2)至少为两个,各可移式等离子箱(2)平行排列于真空室内,各可移式等离子箱之间设有用于使真空室内均匀受热的内加热器(3)。
2、如权利要求1所述的带有内加热器的PECVD系统,其特征在于:所述真空室(1)内底部设有轨道(26),所述可移式等离子箱(2)底部装有滑轮(24),可移式等离子箱由滑轮承载并沿轨道移动。
3、如权利要求1所述的带有内加热器的PECVD系统,其特征在于:所述内加热器(3)包括两个辐射板(9)和夹在辐射板之间的加热管(10),所述两个辐射板通过支撑部件(11)与真空室(1)内上、下端固接,所述加热管(10)的端部穿过法兰(12)予以固定。
4、如权利要求3所述的带有内加热器的PECVD系统,其特征在于:所述支撑部件(11)由卡槽(11a)和支柱(11b)组成,所述两个辐射板卡接在卡槽中,支柱与真空室(1)内上、下端固接;所述法兰的外周沿处套接有密封圈。
5、如权利要求1或3所述的带有内加热器的PECVD系统,其特征在于:所述内加热器(3)与可移式等离子箱(2)的间距为5-12cm。
6、如权利要求1所述的带有内加热器的PECVD系统,其特征在于:所述可移式等离子箱(2)内安装有电极:即交替放置的激发电极(4)和接地电极(13),所述最外侧的两个接地电极作为侧板、其内侧承载一个基板(14),除了侧板以外的其余电极均各承载两个基板(14),各相邻的电极之间形成放电区(25),所述激发电极(4)与所述可移式等离子箱的其他部位绝缘,每个激发电极均独立的由一电源(8)和功率匹配器供能,所述电极的顶部设有一公共的喷淋板(16)、底部设有一公共的不锈钢板(19),喷淋板和不锈钢板上设有孔穴(18),所述喷淋板的顶部设有一盖板(17),盖板上设有与真空室上端进气口(20)相连通的入气口(22),所述可移式等离子箱的底部装有滑轮(24)。
7、如权利要求6所述的带有内加热器的PECVD系统,其特征在于:所述激发电极(4)的个数为N个,所述接地电极的个数为N+1个,其中N为整数且5≤N≤10。
8、如权利要求6所述的带有内加热器的PECVD系统,其特征在于:所述电源(8)采用外置的射频电源(8),电源与激发电极(4)的边缘通过屏蔽电缆(15)连接。
9、如权利要求6所述的带有内加热器的PECVD系统,其特征在于:所述孔穴(18)的孔径Ф为1~4mm,孔距d为10~30mm。
10、如权利要求6所述的带有内加热器的PECVD系统,其特征在于:所述基板(14)面积为(381~1243)×(915~1778)mm。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的