[实用新型]光罩承载架的承载杆有效
| 申请号： | 200920209616.4 | 申请日： | 2009-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN201508458U | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 吴旭升 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 承载 | ||
【权利要求书】：
1.一种光罩承载架的承载杆，其圆周面具有至少一个第一凹槽，其特征在于，该第一凹槽的底部形成一第二凹槽，且第一凹槽适于夹持第一光罩，第二凹槽适于夹持第二光罩。
2.根据权利要求1所述的光罩承载架的承载杆，其特征在于，其中第一凹槽的侧壁是向第一凹槽的外侧倾斜的。
3.根据权利要求2所述的光罩承载架的承载杆，其特征在于，其中第一光罩是6025规格的光罩。
4.根据权利要求1所述的光罩承载架的承载杆，其特征在于，其中第二光罩是6009规格的光罩或5009规格的光罩。
5.根据权利要求1所述的光罩承载架的承载杆，其特征在于，其中第一凹槽的数量为5，且这些第一凹槽为均匀分布在承载杆的圆周面上。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
