[实用新型]沉积高温氧化物的低压化学沉积设备有效
申请号: | 200920211288.1 | 申请日: | 2009-10-23 |
公开(公告)号: | CN201620191U | 公开(公告)日: | 2010-11-03 |
发明(设计)人: | 郝学涛;赵星;翟立君 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/455 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 牛峥;王丽琴 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 高温 氧化物 低压 化学 设备 | ||
1.一种沉积高温氧化物的低压化学沉积设备,包括:
炉管,其具有一端开口、另一端封闭的外管,该外管内还置有一两端开口的内管;
可与外管开口端接触、并与所述外管构成密闭空间的炉管基座;
自外管封闭端覆盖于外管的外侧、且与炉管基座之间保持预定间隔、并可对内管内部加热的加热器;
可载有晶圆的晶舟,其装设于所述炉管基座、并收容于内管内部;
可穿过炉管基座向内管内部通入氧化亚氮N2O的第一气体注入管;
可穿过炉管基座向内管内部通入二氯硅烷DCS的第二气体注入管;
其特征在于,第一气体注入管穿过炉管基座深入内管内部、并在靠近外管封闭端的预定位置反向折弯至加热器与炉管基座之间的预定间隔处,以使N2O经加热器预热后再通入至内管内部。
2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,第一气体注入管平行于内管延伸方向深入至内管内部、并平行于内管延伸方向反向折弯。
3.如权利要求2所述的设备,其特征在于,所述第二气体注入管穿过炉管基座、且其出气端与炉管基座装设晶舟的一侧表面平齐。
4.如权利要求2所述的设备,其特征在于,所述第二气体注入管穿过炉管基座深入内管内部,且其出气端与第一气体注入管的出气端在垂直于内管延伸的方向上平齐。
5.如权利要求3或4所述的设备,其特征在于,在平行于炉管基座的平面上,第一气体注入管和第二气体注入管的出气端之间的间距小于预定间隔。
6.如权利要求5所述的设备,其特征在于,所述第一气体注入管和第二气体注入管为石英管。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的