[实用新型]墨盒式移印机构无效

专利信息
申请号: 200920238054.6 申请日: 2009-10-27
公开(公告)号: CN201544523U 公开(公告)日: 2010-08-11
发明(设计)人: 张红梅;兰国荣;曾凤燕;程进忠;高圳雄;林建国 申请(专利权)人: 厦门奥泰科自动化科技有限公司
主分类号: B41F17/00 分类号: B41F17/00;B41F31/04
代理公司: 厦门市诚得知识产权代理事务所 35209 代理人: 刘辉
地址: 361102 福建省厦门市火*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 墨盒 式移印 机构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及墨盒移印机构,尤其涉及对电子元件外壳印制文字或标识用的墨盒式移印机构。

背景技术

电子元件的外壳上一般需要印刷型号、电气性能、电气符号等文字信息,可以采用油墨印制和激光刻印等方式,由于成本的考虑,通常采用最多的还是油墨印制。但是已有的墨盒式移印机构是将油墨直接倒在模板槽内,再利用刮刀来刮模板上的油墨。由于油墨中的稀释剂和慢干水等成分含有易挥发物质且带刺激性气味。已有的墨盒式移印机构的油墨事直接暴露在空气中,会对身体有一定的伤害。

实用新型内容

因此,针对上述问题,本实用新型提出一种墨盒式移印机构,克服已有技术不足,是利用墨盒来刮墨,因此可以避免油墨直接暴露在空气对空气环境的污染及人体的危害,且大大减少油墨挥发和降低刮墨噪音。

本实用新型的技术方案是:

本实用新型的墨盒式移印机构,包括胶头移动组件和墨盒印字模板组件。其中,所述的墨盒印字模板组件包括一印字模板基座,所述的印字模板基座上设置一印字模板,所述的印字模板基座下设有一刮墨滑轨基座,所述的刮墨滑轨基座上固定一刮墨滑轨,所述的刮墨滑轨设有一刮墨滑块,所述的刮墨滑块一端连接于一刮墨气缸,刮墨气缸用于推动刮墨滑块沿刮墨滑轨滑动运动,所述的刮墨滑块上固定一油墨悬挂框体,所述的油墨悬挂框体环绕于所述的印字模板外,印字模板贯穿于油墨悬挂框体内,所述的油墨悬挂框体的上横梁固定一墨盒,所述的墨盒下方接触于印字模板上表面。

进一步的,所述的胶头移动组件包括一胶头移动基座,所述的胶头移动基座水平方向固定设置一水平前后滑轨,其上设有一“L”型角铁滑块,连接于一前后推动气缸,由其推动滑块前后运动,“L”型角铁滑块设有一胶头固定件,所述的胶头固定件上方设有一上下推动气缸,上下推动气缸下方固定连接一胶头,由上下推动气缸推动胶头上下运动。

更进一步的,所述的“L”型角铁滑块上设有轨道,所述的胶头固定件可以沿轨道内外滑动。

本实用新型采用如上技术方案,克服已有的墨盒式移印机构将油墨直接倒在模板槽内,再利用刮刀来刮模板上的油墨,会导致油墨暴露于空气的不足,提出一种是利用墨盒来刮墨,因此可以避免油墨直接暴露在空气对空气环境的污染及人体的危害,且大大减少油墨挥发和降低刮墨噪音,并且结构简单可靠,加工作也效率高效。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是本实用新型的胶头移动组件的结构示意图。

具体实施方式

现结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步说明。

参阅图1和图2所示,本实用新型的墨盒式移印机构,包括胶头移动组件和墨盒印字模板组件。其中,所述的墨盒印字模板组件包括一印字模板基座70,所述的印字模板基座70上设置一印字模板60,所述的印字模板基座70下设有一刮墨滑轨基座42,所述的刮墨滑轨基座42上固定一刮墨滑轨41,所述的刮墨滑轨41设有一刮墨滑块43,所述的刮墨滑块43一端连接于一刮墨气缸40,刮墨气缸40用于推动刮墨滑块43沿刮墨滑轨41滑动运动,所述的刮墨滑块43上固定一油墨悬挂框体50,所述的油墨悬挂框体50环绕于所述的印字模板60外,印字模板60贯穿于油墨悬挂框体50内,所述的油墨悬挂框体50的上横梁501固定一墨盒51,所述的墨盒51下方接触于印字模板60上表面。所述的胶头移动组件包括一胶头移动基座80,所述的胶头移动基座80水平方向固定设置一水平前后滑轨11,其上设有一“L”型角铁滑块12,连接于一前后推动气缸10,由其推动滑块12前后运动,“L”型角铁滑块12设有一胶头固定件31,所述的胶头固定件31上方设有一上下推动气缸20,上下推动气缸20下方固定连接一胶头30,由上下推动气缸20推动胶头30上下运动。所述的“L”型角铁滑块12上设有轨道,所述的胶头固定件31可以沿轨道内外滑动。

本实用新型的工作原理是:所述的墨盒印字模板组件的刮墨气缸4推动刮墨滑块43沿刮墨滑轨41滑动运动,从而带动油墨悬挂框体50上的墨盒51对印字模板60进行刮墨,然后胶头移动组件的前后推动气缸10和上下推动气缸20控制胶头30进行转印。

尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本实用新型,但所属领域的技术人员应该明白,在不脱离所附权利要求书所限定的本实用新型的精神和范围内,在形式上和细节上可以对本实用新型做出各种变化,均为本实用新型的保护范围。

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