[实用新型]抛光台装置无效
申请号: | 200920254928.7 | 申请日: | 2009-12-10 |
公开(公告)号: | CN201573110U | 公开(公告)日: | 2010-09-08 |
发明(设计)人: | 陈波;柳滨;王伟 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;H01L21/302 |
代理公司: | 石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 13100 | 代理人: | 董金国 |
地址: | 河北省三河市*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抛光 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种抛光台装置,特别是一种用于半导体晶圆的化学机械抛光设备上的抛光台装置。
背景技术
化学机械抛光或平坦化(CMP)为抛光包括半导体基片和覆盖在这样的基片上的膜的材料的技术,提供高度均匀性和平面度。该过程用于移除在基片上制造为电子电路期间形成的膜上的突起特征,或者用于移除膜层以暴露埋在膜下面的电路。该过程还可以在制造微电子电路之前平面化半导体晶片。
抛光台在抛光过程中绕中心自传,抛光垫固定在抛光台上,抛光垫上维持具有研磨材料的化学浆料,携带晶片的抛光头压在抛光垫上旋转,与抛光垫产生相对运动。通过磨粒的摩擦去除掉已经被化学作用软化的晶片表面层材料。
传统抛光设备的抛光台装置的构成中包括大理石抛光台、散热盘、主传动轴以及由三者构成的冷却液循环系统,其中,散热盘固定在大理石抛光台的下部,且两者间构成冷却液循环腔体,由一根主传动轴带动抛光台的台面转动并且承受整个系统的压力。采用加乙二醇或乙三醇的过滤自来水溶液循环流经紧挨抛光台面的散热盘来控制抛光台面的温度。
传统方案的优点是:结构简单;节省空间。
传统方案的缺点是:各零件的加工精度要求太高;系统刚度不易保证;
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种易制造、承载能力强的抛光台装置。
解决上述问题所采用的技术方案如下:
本实用新型包括大理石抛光台、散热盘、主传动轴以及由三者构成的冷却液循环系统,所述的散热盘的下端面与机体间设有一推力轴承,推力轴承的上轴承座与散热盘共为一体,推力轴承的下轴承座与机体固定。
本实用新型所述推力轴承外侧设有防尘罩,防尘罩与下轴承座固定。
本实用新型所述冷却液循环系统中的主传动轴为中空轴,其上端与一连接密封盘及一液体分配法兰固定,散热盘与液体分配法兰固定,大理石抛光台与散热盘固定,散热盘上端面上设有呈辐射状均布的多个扇形凹槽,扇形凹槽相互间的隔板上设有供凹槽相互间连通的连通口,中空的主传动轴心部固定有过水芯轴;过水芯轴的进水孔经液体分配法兰的导流孔与散热盘上的扇形凹槽连通,过水芯轴的出水孔与散热盘上的扇形凹槽的出水口连通,并构成冷却液循环回路。
本实用新型的积极效果如下:由于本实用新型在其散热盘与机体间增设了一推力轴承,这样可明显提高大理石抛光台及主传动轴的刚度,使大理石抛光台的承载能力提高,同时还可相应降低各相关零部件的加工精度。故本抛光台装置易制造,工作可靠,是现有的抛光台装置较理想的替代产品。另外,由于本装置的散热盘采用多扇形凹槽结构,可使冷却液平稳快速均衡的循环流动,有利提高温控效果。
附图说明
图1为本实用新型一种实施例的主视剖视图;
图2为图1所示实施例的液体循环路径示意图;
图3为图1所示散热盘的轴侧示意图;
图4为图3所示散热盘的轴侧剖视示意图;
图5为图1所示液体分配法兰的轴侧结构的示意图;
图6为图5所示液体分配法兰的轴侧剖视结构示意图。
在附图中:
1、大理石抛光台,2、散热盘,3、堵头,4、堵头,5、防尘罩,6、机体,7、推力轴承,8下轴承座,9、减速器盖,10、轴承,11、主传动轴,12、过水芯轴,13、连接密封盘,14、液体分配法兰,15、连接螺钉,16、连接螺钉,17、连接螺钉,18、固定销子,19、下密封盖,20、上密封盖,21、带肩螺钉,22a、进水孔,22b、导流孔,22c、扇形凹槽,22d、出水口,22e、出水环形管道,22f、出水口,22g、出水环形管道,22h、出水孔、23、连通孔,24、排液口,25、注油孔
具体实施方式
下面将结合实施例附图对本实用新型作进一步详述:
参见附图,在图1中,主传动轴11与减速器盖9间设有轴承10。主传动轴11上端与连接密封盘13、液体分配法兰14通过带肩螺钉21和固定销子18来连接并固定为一个整体。液体分配法兰14与散热盘2用螺钉连接固定,散热盘2与大理石抛光台1(直径830mm)通过螺钉15、16、17连接固定。主传动轴11由固定在机体上的减速箱带动旋转。从而带动大理石抛光台1旋转。
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