[实用新型]镀件清洁槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种镀件清洁槽，尤其涉及一种方便清洗的镀件清洁槽。

背景技术

众所周知，电镀是指金属阳离子在电解过程中利用电子流的作用下，使镀液中金属阳离子还原成金属单质而沉积在阴极镀件表面的过程。由于电镀表面处理工艺所需设备简单、操作易于控制且成本较低，故电镀表面处理方法在工业中广泛应用。

电镀表面处理过程中，镀件清洁槽是不可或缺的装置之一。通常情况下，电镀表面处理过程中，需要首先提供一用以收容电镀液的电镀槽，同时还需要提供清洁电镀后产品的镀件清洁槽。不同电镀工艺，对应所需要配置的电镀液也各不相同，故，在电镀表面处理工艺中，当需要对电镀槽内的电镀液进行更换时，还需要保证电镀槽彻底清洁，以避免电镀槽内残留电镀液进而影响电镀效果。另，不同的电镀液亦需要配备对应的清洗液以与电镀液发生化学反应等实现化学清洁，或者水洗实现物理清洁等。故，设计合理的电镀槽和镀件清洗槽以实现彻底高效清洁是业界亟待解决的难题。

请参阅图1，是现有技术一种镀件清洗槽的侧面剖视结构图。所述镀件清洁槽1包括一底部2及多个侧壁3，所述底部2配合所述多个侧壁3围成一具开口的收容空间(未标示)，所述收容空间用以容纳电镀液或者清洗液。

所述底部2是一厚度均匀的平板，其靠近收容空间侧表面与水平面相互平行。所述多个侧壁3均是由所述底部2沿同一方向垂直延伸形成，所述多个侧壁3首尾相接，且同时与所述底部2垂直相接。所述收容空间包括一进液口5及一出液口6。所述进液口5与出液口6设置于同一侧壁3，且所述出液口5与所述底部2之间的间距大于所述出液口6与所述底部2之间的间距。

由于现有技术中所述镀件清洁槽1的底部2内表面水平设置，故由设于所述侧壁3的进液口5注入所述镀件清洁槽1收容空间内部的电镀液以及清洗液等，往往会有部分残留，难以完全流出镀件清洁槽，导致清洁不彻底。且，在清洁过程中，其中所述侧壁3与底部2相交接区域，因为二者垂直相接，故在该区域容易残留污垢，对应的清洗液在该区域冲击力亦对应受到限制，无法完全排除污垢，导致清洁不彻底，久而久之会影响后续的电镀及清洗效果及效率，进而影响待电镀产品的质量。

实用新型内容

为解决现有技术镀件清洁槽内部污垢不易彻底清洗且清洁效果不佳的问题，提供一种方便清洗且清洗效果较佳的镀件清洁槽实为必要。

一种镀件清洁槽，其包括一底部及多个侧壁，所述底部和多个侧壁围成一收容空间，所述收容空间包括一进液口与一出液口，所述收容空间内设一倾斜面，所述出液口位于所述倾斜面相对于水平面的最低点设置。

相较于现有技术，本实用新型在镀件清洁槽的收容空间内部设置倾斜面，使镀件清洁槽的底部和侧面之间非垂直相接，避免该区域有污垢积聚残留，更方便清洁底部和侧面交接的区域。同时所述倾斜面与水平面之间呈夹角设置，故使得收容空间内所容纳的电镀液或者清洗液由自身重力作用，沿倾斜面自动下滑移动至出液口排出，避免电镀液或者清洗液的残留，彻底清洁镀件清洁槽，大大提高清洁效果。

附图说明

图1是现有技术一种镀件清洁槽的侧面剖视结构图。

图2是本实用新型镀件清洁槽第一实施方式的侧面剖视结构图。

图3是本实用新型镀件清洁槽第二实施方式的侧面剖视结构图。

图4是本实用新型镀件清洁槽第三实施方式的侧面剖视结构图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型镀件清洁槽的结构进行详细说明。

图2是本实用新型镀件清洁槽第一实施方式的侧面剖视结构图。所述镀件清洁槽10水平放置在一具水平台面的工作台20，供清洗电镀产品使用。

所述镀件清洁槽10包括一底部12、四个侧壁14及一突出部16。其中，所述四个侧壁14由底部12的边缘垂直延伸形成，且所述四个侧壁14位于所述底部的同一侧。所述底部12配合四个侧壁14围成一具开口的收容空间(未标示)。所述突出部16设于所述收容空间内，其是由所述底部12向收容空间内侧延伸形成。

所述底部12是一整体呈矩形的平板，其包括两组相对侧边(未标示)。所述底部12远离收容空间侧表面平行于水平面，其抵接所述工作台20的水平台面。

所述四个侧壁14是分别由所述底部12的两组相对侧边分别延伸形成的两组相对平行间隔设置的侧壁。每一侧壁14均垂直于所述底部12，且所述四个侧壁14配合所述底部12围成整体呈长方体的中空结构。在本实施方式中，取剖视结构所示的两个相对侧壁分别为第一侧壁141和第二侧壁142。