[实用新型]药水交换系统无效

专利信息
申请号: 200920260842.5 申请日: 2009-11-24
公开(公告)号: CN201560237U 公开(公告)日: 2010-08-25
发明(设计)人: 王世明;曹阳;王彩霞;孙建 申请(专利权)人: 深南电路有限公司
主分类号: C23F1/08 分类号: C23F1/08;C23F1/46;B01D36/02;H05K3/06
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 44275 代理人: 张明
地址: 518053 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 药水 交换 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种加工设备,尤其涉及一种线路板水平线的药水交换系统。

背景技术

线路板蚀刻所用的蚀刻液一般先装置于药水槽中,然后通过过滤泵将蚀刻液抽到过滤桶中过滤,过滤后的蚀刻液再通过传输系统又输送到药水槽中然后通过喷管喷流到线路板上。

在实际的生产过程中,药水槽由于体积以及盛装蚀刻液后重量都较大,不方便搬运,于是就将药水槽的体积做小,相应的药水槽的容积也缩小,盛装的蚀刻液随之减少,如此就需要将多个(至少两个)药水槽一起使用,并通过管道将两个药水槽连接在一起以使两个药水槽之间的蚀刻液交换。

请参阅图1,其为现有的一种药水交换系统,包括用来盛装蚀刻液的第一药水槽10、第二药水槽11,所述第一药水槽10、第二药水槽11上分别连接有一过滤系统13,通过过滤泵分别将第一、第二药水槽10、11中的蚀刻液抽到过滤系统13中,经过滤系统13过滤后的蚀刻液经过输送管分别输送回第一、第二药水槽10、11。所述第一药水槽10与第二药水槽11之间通过一管道12连接,通过管道12将第一药水槽10和第二药水槽11中的蚀刻液进行交换,以防止第一药水槽10和第二药水槽11中的蚀刻液中的离子浓度不同而影响线路板蚀刻质量。

然而,上述第一药水槽10、第二药水槽11中各自盛装的蚀刻液分别通过过滤泵抽到过滤系统13中,再通过输送管流回各自的药水槽中,蚀刻液只是在各自槽中进行孤立的小循环,即使通过管道12连接第一、第二药水槽10、11,由于管道12两边的药水槽中的蚀刻液都是运动的,从而管道12中的蚀刻液运动较小或者几乎不会运动,第一、第二药水槽10、11中的蚀刻液交换会不够充分,在加工产品的过程中会由于蚀刻液交换不充分导致线路板蚀刻的差异,容易产生线路板欠、过腐蚀的异常情况,而且由于蚀刻液交换不充分,其中一药水槽中的含铜量大,蚀刻液易结晶,不仅影响线路板生产的产能,同时还需要花费大量的人力、物力对结晶的蚀刻液进行调整。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种药水交换系统,能使药水槽中药水交换充分,提高工艺质量。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种药水交换系统,包括至少一第一药水槽、至少一第二药水槽,所述第一、第二药水槽均具有进水口与出水口,所述第一药水槽与所述第二药水槽之间具有至少一过滤系统,所述过滤系统连接在所述第一、第二药水槽的出水口、进水口之间,所述第一、第二药水槽之间具有一通道。

其中,所述过滤系统包括过滤泵与过滤桶,所述过滤泵与所述第一或第二药水槽的出水口连接,所述过滤桶与所述第一或第二药水槽的进水口连接。

其中,所述第一药水槽与第二药水槽之间具有第一过滤系统,所述第一过滤系统的过滤泵与第一药水槽的出水口连接,第一过滤系统的过滤桶与第二药水槽的进水口连接;第二药水槽与第一药水槽之间具有第二过滤系统,所述第二过滤系统的过滤泵与第二药水槽的出水口连接,第二过滤系统的过滤桶与第一药水槽的进水口连接,所述通道为第二过滤系统。

其中,所述第一药水槽与第二药水槽之间具有一第一过滤系统,所述第一过滤系统的过滤泵与第一药水槽的出水口连接,第一过滤系统的过滤桶与第二药水槽的进水口连接;第二药水槽与一第二过滤系统连接,所述第二过滤系统的过滤泵与第二药水槽的出水口连接,第二过滤系统的过滤桶与第二药水槽的进水口连接。

其中,所述第一药水槽与第二药水槽之间具有一第一过滤系统,所述第一过滤系统的过滤泵与第二药水槽的出水口连接,第一过滤系统的过滤桶与第一药水槽的进水口连接;所述第一药水槽与一第一过滤系统连接,所述第一过滤系统的过滤泵与第一药水槽的出水口连接,第一过滤系统的过滤桶与第一药水槽的进水口连接。

其中,所述第一药水槽进一步与第三过滤系统连接,所述第三过滤系统的过滤泵与第一药水槽的出水口连接,第三过滤系统的过滤桶与第一药水槽的进水口连接;所述第二药水槽进一步与第四过滤系统连接,所述第四过滤系统的过滤泵与第二药水槽的出水口连接,第四过滤系统的过滤桶与第二药水槽的进水口连接;所述通道为连接在第一药水槽与所述第二药水槽之间的过滤系统。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深南电路有限公司,未经深南电路有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920260842.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top