[实用新型]发光装置无效
申请号: | 200920265754.4 | 申请日: | 2009-12-29 |
公开(公告)号: | CN201599729U | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | 蔡友华 | 申请(专利权)人: | 番禺得意精密电子工业有限公司 |
主分类号: | F21V8/00 | 分类号: | F21V8/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 511458 广东省广州市番禺*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 | ||
1.一种发光装置,其特征在于,包括:
至少一光源;以及
一透明体,所述透明体一侧形成一入光面恰位于所述光源所投射光线的投射路径上,所述透明体一侧表面形成有一散光面,所述散光面相对避开所述透明体内光线的直接投射路径,且所述散光面表面布设有若干调光刻纹,以及所述透明体中所述入光面另侧形成一辅助导光斜面,所述辅助导光斜面恰位于所述光源于所述透明体内光线的直接投射路径上,用以反射光线至所述散光面。
2.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述透明体呈圆柱状,其还具有一反光面,所述散光面和所述反光面分别位于所述透明体径向的两侧。
3.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述散光面为平面。
4.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述散光面为凸出的弧面。
5.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述入光面为平面。
6.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述入光面为凹弧面。
7.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述入光面为倾斜面。
8.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述调光刻纹为阳刻方式。
9.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:若干所述调光刻纹呈点状。
10.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:若干所述调光刻纹呈条状。
11.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:若干所述调光刻纹呈网格状。
12.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述调光刻纹为阴刻方式。
13.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述调光刻纹为阳刻方式和阴刻方式相间隔。
14.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述辅助导光斜面自所述散光面朝接近所述入光面的方向倾斜形成。
15.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述辅助导光斜面自所述散光面朝远离所述入光面的方向倾斜形成。
16.如权利要求1所述的发光装置,其特征在于:所述辅助导光斜面自所述散光面朝接近所述入光面的方向倾斜,再朝远离所述入光面的方向倾斜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于番禺得意精密电子工业有限公司,未经番禺得意精密电子工业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920265754.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。