[实用新型]动态反射式微波加温干燥灭菌设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种动态反射式微波加温干燥灭菌设备。适用于制作浸膏类、颗粒类物料的加温、干燥、灭菌设备，尤其适用于制造GMP设备。

背景技术

目前微波加温干燥灭菌设备大都是以物料运动的方式来改善微波辐射的均匀性。其运动类型主要有：托盘旋转类，吊筐滚动类，链板传动类，管道移动类等。由于是以物料运动方式进行加温干燥灭菌的设备，就不可避免的存在以下几方面的缺点：设备体积偏大，制作消耗材料多，占用空间大；传动机构耗能高；传动机构不易分解移出，打扫清洁困难；不易制作附合GMP标准的设备；微波辐射均匀性不好。

实用新型内容

本实用新型解决的技术问题：提供一种设计合理，结构简单，加热均匀，清洁卫生，适用范围广的动态反射式微波加温干燥灭菌设备，改物料运动为微波动态散漫辐射，改善了加热均匀度，缩小了设备体积，降低了生产成本。

本实用新型的技术解决方案：一种动态反射式微波加温干燥设备，包括箱体(10)，箱体(10)内设置有干燥腔(9)，干燥腔(9)的两侧制有微波反射口(14)，干燥腔(9)的两侧设置有两组磁控管(1)和两组电磁吸合装置(4)，磁控管(1)的前端装有微波反射器(2)，微波反射器(2)的前端位于微波反射口(14)中，干燥腔(9)内的上方通过悬挂装置(5)悬挂有微波散射板(3)，且电磁吸合装置(4)对应安装在微波散射板(3)的两端，干燥腔(9)的底部设置有支架(13)，支架(13)上放置有物料承载盘(6)。

所述微波反射器(2)呈凹型，安装在磁控管(1)前端的天线周围。

所述微波散射板(3)是一块下端面布满了凸起和凹窝的金属板。

所述干燥腔(9)的一侧设置有真空设备接口(7)。

所述干燥腔(9)的下端装有温控装置(8)，且温控探头(8)位于支架(13)的上端。

所述磁控管(1)对称排列，位于箱体(10)的下方，略高于物料承载盘(6)。

所述箱体(10)前端装有密封门(11)，干燥腔(9)前端敞开为物料进出口，且密封门(11)关闭后可将干燥腔(9)前端敞开的物料进出口密封。

本实用新型与现有技术相比具有的优点和效果：

1、本实用新型改物料运动为微波动态散漫辐射，微波辐射均匀性好，改善了加热均匀度，缩小了设备体积，节约了能源，降低了生产成本。

2、本实用新型由于物料静置不动，就为直接接触物料随机监测提供了方便的条件，对提高测控精度降低设备成本提供了有利的条件，是物料运动微波设备所不能比拟的。

3、本实用新型为箱式结构，干燥腔内的部件支架、物料承载盘、散射板及悬挂装置可轻易拆除，当需要清洁时都可拆下移出箱外清冼，因此它具备生产GMP设备的基础条件。

4、本实用新型采取静态与动态两种调试手段，来达到微波辐射最佳均匀度。静态调试时通过调整微波反射器的位置与角度来测试调整静态的微波辐射均匀度。动态调试时通过调整微波散射板的行程与频率精密调整加温均匀度，使之满足物料加工需要。

附图说明

图1为本实用新型的内部结构示意图，

图2为本实用新型的外形结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图1、2描述本实用新型的一种实施例。

一种动态反射式微波加温干燥设备，包括箱体10，箱体10内设置有干燥腔9，箱体10前端装有密封门11，干燥腔9前端敞开为物料进出口，且密封门11关闭后可将干燥腔9前端敞开的物料进出口密封。干燥腔9的两侧对称制有微波反射口14，凹型微波反射器2的前端固定在微波反射口14上，后端固定在磁控管1上，且位于磁控管1前端的天线周围。干燥腔9的两侧装有两组电磁吸合装置4，干燥腔9内的上方通过悬挂装置5悬挂有微波散射板3，且电磁吸合装置4对应安装在微波散射板3的两端，干燥腔9的底部设置有支架13，支架13上放置有物料承载盘6。

所述磁控管1对称排列，位于干燥腔9的下方，略高于物料承载盘6。所述微波散射板3是一块下端面布满了凸起和凹窝的金属板。所述干燥腔9的一侧设置有真空设备接口7。所述干燥腔9的下端装有温控探头8，且温控探头8位于支架13的上端。

所述密封门11上装有保护开关，箱体10上装有控制装置1，保证门开启时切断微波工作电源，使微波发生器磁控管1中止工作。

微波由磁控管产生，磁控管的数量根据设计功率，加温面积，微波分布等因素确定。磁控管单只功率500W---1000W。