[实用新型]机车清洗平台有效

专利信息
申请号: 200920284789.2 申请日: 2009-12-08
公开(公告)号: CN201573676U 公开(公告)日: 2010-09-08
发明(设计)人: 陈永祥;李国章;刘维平;纪录荣;王中喜;陶刚;成玉海;陈段龙 申请(专利权)人: 上海梅山钢铁股份有限公司
主分类号: B61K13/00 分类号: B61K13/00
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 闫彪;何朝旭
地址: 210039 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 机车 清洗 平台
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种用于清洗机车的平台,属于机车清洗设备技术领域。

背景技术

机车需要经常进行维护保养,其中对机车外表几乎要每天进行清洗维护。目前机车外表的清洗维护都是通过人站在专门制作的固定式行走平台上来完成的。现有固定式行走平台的结构如图1和图2所示,为了保证安全的机车限界要求,行走平台1一般都固定设置在机车100的两侧。由于行走平台1距离机车顶部较远,因此人站在行走平台1上只能对机车100侧面进行清洗而无法对机车100的顶部进行清洗。这样,维护人员不得不另外爬上机车100的顶部,站在几米高的车顶上对机车100的顶部的清洗。由于机车100的顶部无安全固定装置,因此对维护人员来说存在较大的安全隐患。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是,提出一种适合维护人员站立行走以对机车侧面和顶部均能进行安全有效清洗维护的机车清洗平台。

本实用新型的技术方案是:一种机车清洗平台,包括固定于机车侧面地面上的带护栏的行走平台,所述行走平台上安置有带护栏的活动平台,所述活动平台与行走平台形成移动副,所述活动平台远离机车的一侧与行走平台之间形成空缺区,所述活动平台的底部距离地面高度大于机车顶部距离地面高度。

本实用新型机车清洗平台使用时,维护人员站在行走平台上可对机车的侧面进行清洗。当需清洗机车顶部时,维护人员先站在行走平台上活动平台与行走平台之间的空缺区,然后推动活动平台使其沿行走平台向机车顶部移动,一直到活动平台伸出行走平台的一端搭在机车顶部上后,维护人员再站到活动平台留在行走平台的另一端上并走向机车顶部,最后维护人员将身上的保险带拴在活动平台一端的护栏上,这样就可以对机车顶部进行清洗维护了。当清洗维护完毕,维护人员先返回到行走平台上的空缺区,然后拉动活动平台使其沿行走平台反向移动直至其全部返回到行走平台上。

本实用新型的机车清洗平台通过在现有行走平台上加设活动平台,可以使活动平台相对行走平台移动到机车顶部,最终使维护人员可以安全行走并站立在活动平台并靠近机车顶部,从而实现对机车顶部进行安全有效地清洗。

上述技术方案的改进是:所述活动平台与行走平台形成上、下错开的二层,所述活动平台的底部与行走平台的顶部形成移动副。

上述技术方案的进一步改进是:所述活动平台的宽度大于行走平台的宽度且其长度小于行走平台的长度,所述活动平台的下方设有一端固定于地面而另一端与活动平台底部固定的支架。

上述技术方案的更进一步改进是:所述行走平台上设置有滚道,所述滚道内嵌装有与活动平台底部联接的滚轮。

上述技术方案的再进一步改进之一是:所述滚道是由槽钢制成上部敞开的单滚道,所述滚轮布置于活动平台底部的四角处。

上述技术方案的再进一步改进之二是:所述滚道是由两根槽钢上、下对合形成的上、下滚道;所述下滚道内靠近机车的一端固定有第一转轴,所述上滚道内远离机车的一端固定有第二转轴,所述滚轮沿朝向机车方向分成前、后滚轮,所述前滚轮套装于第一转轴上与上滚道抵靠并可绕第一转轴转动,所述后滚轮套装于第二转轴上与下滚道抵靠并可在下滚道内滚动,所述上滚道与活动平台底部固定,所述下滚道与行走平台顶部固定。

上述技术方案的又进一步改进是:所述滚道靠近机车一端的顶面上装设有压轮机构,所述压轮机构由压轮和固定块构成,所述固定块固定在行走平台的顶架上,所述压轮通过第三转轴与固定块铰接。

上述技术方案的完善是:所述活动平台的一端加装有连通活动平台与行走平台上、下二层的扶梯。

上述技术方案的进一步完善是:所述活动平台面向机车的一侧设有开门,所述开门的两边设有搭扣,所述搭扣上挂接链条;所述行走平台和活动平台上均铺设有格栅板;所述活动平台靠近空缺区的一侧加装有手推杆架。

附图说明

下面结合附图对本实用新型的机车清洗平台作进一步说明。

图1是现有固定式行走平台的结构示意图。

图2是图1左视图。

图3是本实用新型实施例一的机车清洗平台结构示意图。

图4是图3中A-A向局部剖面结构示意图。

图5是本实用新型实施例一的机车清洗平台使用状态图。

图6是本实用新型实施例二的机车清洗平台结构示意图。

图7是是图6中分解的活动平台的结构示意图。

图8是图6左视图。

图9是图7左视图。

图10是图7中B-B向局部剖面结构示意图。

图11是图10的正视图。

图12是图11中C-C向剖面结构示意图。

图13是图11中I处的局部放大图。

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