[实用新型]真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶

权利要求书

1.真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，包括旋转靶管，位于旋转靶管内的带冷却水通道的磁钢组件，电源引入电极，装于旋转靶管至少一端上的旋转靶用端头，位于旋转靶用端头中的支撑轴承，其特征在于旋转靶用端头中有与磁钢组件中冷却水通道相通的旋转空心轴，磁流体密封件套在旋转空心轴上并与旋转空心轴紧密贴合，旋转空心轴上有与旋转靶管连接的卡端。

2.如权利要求1所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于采用内表面复合有粘结剂的热收缩膜将磁钢组件表面全包覆。

3.如权利要求1所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于旋转靶管两端分别有旋转靶用端头，其中一个旋转靶用端头中有冷却水入口接口，另一个旋转靶用端头中有冷却水出口接口和电源引入电极。

4.如权利要求1所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于旋转靶一端有旋转靶用端头，旋转靶用端头中有冷却水入口接口、冷却水出口接口和电源引入电极。

5.如权利要求4所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于旋转靶另一端悬空布置或用支架或轴承支撑。

6.如权利要求1～5之一所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于支撑轴承为径向支撑轴承和/或轴向支撑轴承。

7.如权利要求1～5之一所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于旋转空心轴上有带动旋转空心轴和旋转靶旋转的皮带或链条或齿轮机构。

8.如权利要求1～5之一所述的真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶，其特征在于卡端与旋转空心轴为一整体。