[实用新型]陶瓷轴承式反应釜无效
申请号: | 200920309953.0 | 申请日: | 2009-09-09 |
公开(公告)号: | CN201493113U | 公开(公告)日: | 2010-06-02 |
发明(设计)人: | 董建清 | 申请(专利权)人: | 威海化工机械有限公司 |
主分类号: | B01J19/18 | 分类号: | B01J19/18;B01F7/20 |
代理公司: | 威海科星专利事务所 37202 | 代理人: | 于涛 |
地址: | 264209 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 陶瓷 轴承 反应 | ||
技术领域
本实用新型属于搅拌反应釜技术领域,具体地说是底支撑采用陶瓷轴承式的搅拌反应釜。
背景技术
搅拌反应釜是化工、石油化工领域生产过程中必不可少的承载压力容器,搅拌反应釜是由反应釜的釜体、搅拌传动装置、搅拌器等组成,动力由搅拌传动装置传递到搅拌轴,搅拌轴带动搅拌器运转达到搅拌介质物料完成各种化工工艺要求,其中搅拌轴一般呈悬臂梁式结构,这样便于安装、维护、减少介质腐蚀造成的影响,大型搅拌反应釜其搅拌轴悬臂过长,搅拌器的直径大,消耗的功率大,因而搅拌轴所承受的扭力大,同时搅拌的离心力的作用也随即增加,常常出现搅拌轴扭曲、搅拌轴摆动量超过轴封处允许范围引起搅拌反应釜轴封损坏,使搅拌反应釜无法正常工作,实际的生产中为了防止搅拌轴在运转中的径向偏摆量过大,超过搅拌轴轴封件处的允许径向偏差,保证该设备正常运行,在搅拌轴的下端与反应釜的釜底之间增设底支撑,改善大型搅拌反应釜的支撑条件,减少搅拌轴的挠度,保证搅拌轴的径向偏摆量在允许范围内运转,底支撑按不同的方式可以分为三足式、底部法兰式、迷宫式、可拆式,现在主要采用转动套与固定套之间的滑动运行方式,增设底支撑改变了搅拌轴的支撑条件,同时也增加了搅拌轴的支点,这样就对底轴承的安装提出很高的要求,安装不好会加大偏心、加剧轴承的磨损并产生振动,另外,底轴承在反应介质中是利用液态介质润滑,但当存在固体小颗粒时,会进入底轴承内造成该轴承的磨损、堵住咬死现象。
发明内容
本实用新型针对以上现有技术中的不足,提供一种结构简单、工作可靠、耐腐蚀、耐高温、耐磨损、安装方便适用于搅拌的陶瓷轴承式反应釜。
本实用新型采用下述技术方案:
一种陶瓷轴承式反应釜,包括釜体、动力装置、动力传动装置、联轴器、搅拌轴、搅拌器,其特征在于设有由釜体底板、支撑架、陶瓷轴、陶瓷环和搅拌轴组成的底支撑轴承,形成以搅拌轴为内圈,陶瓷轴、陶瓷环为滚珠,支撑架为滚珠支架,反应釜底板作为外圈的滚动轴承运转方式,陶瓷轴与陶瓷环相对运动,陶瓷环与搅拌轴之间做回转运动,实现了底支撑体滑动运行到回转运动的转变。
本实用新型至少设有三个由陶瓷轴、陶瓷环、支撑架形成的支点,支点相当于滚动轴承的一个滚珠,多个陶瓷轴、陶瓷环、支撑架部件采取用支点式结构组成搅拌反应釜底支撑,避免了具有颗粒的液体物料对底支撑的破坏。
本实用新型支撑架固定在釜体底板上,支撑架上设有连接孔,陶瓷轴经压盖固定在支撑架连接孔内,陶瓷轴套有陶瓷环,陶瓷环与搅拌轴相接触,至少三套支撑架、陶瓷轴和陶瓷环将搅拌轴进行支撑定位,限制搅拌轴的摆动幅度。
本实用新型可以在陶瓷环外设有接触轴体,接触轴体可以是套在陶瓷环的环形体,也可以是至少两块粘在陶瓷环上的弧形块体,接触轴体有效地保护了陶瓷环,防止陶瓷环破碎。
本实用新型可以在陶瓷环下设有调节垫片,以调节陶瓷环的高度,增加陶瓷轴与陶瓷环的接触面积,延长其使用寿命。
本实用新型是应用于搅拌反应釜上的一种防止搅拌轴在运转中的径向偏摆量过大装置,避免搅拌轴的径向摆动量超过了搅拌轴密封件处的允许径向偏差,起到底防摆的作用保证使用该装置的搅拌反应釜安全运转,具有无需润滑的底部支撑装置,利用陶瓷的耐磨性能,提高底支撑的使用寿命,同时行星式结构更适用于含有固体料的反应介质的场合。
附图说明
图1为本实用新型的一种结构示意图。
图2是图1的釜体底部的局部结构示意图。
图3是图1的A-A剖面图。
图4是图3的B-B剖视放大图。
图5是图4的俯视图。
图6是本实用新型釜体底部的一种结构举例示意图。
图7是本实用新型釜体底部的另一种结构举例示意图。
图中标记:釜体1、底板2、陶瓷轴承装置3、搅拌轴4、陶瓷轴5、调节垫片6、接触轴体7、陶瓷环8、压盖9、支撑架10、联轴器11、动力传动装置12、动力装置13、搅拌器14。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步的描述:
如图所示:一种陶瓷轴承式反应釜,包括釜体1、动力装置13、动力传动装置12、联轴器11、搅拌轴4、搅拌器14,上述与现有技术相同,此不赘述,本实用新型的特征在于设有由釜体底板1、支撑架10、陶瓷轴5、陶瓷环8和搅拌轴4组成的底支撑轴承装置3,形成以搅拌轴4为内圈,陶瓷轴5、陶瓷环8为滚珠,支撑架10为滚珠支架,反应釜底板2作为外圈的滚动轴承运转方式,陶瓷轴5与陶瓷环8相对运动,陶瓷环8与搅拌轴4之间做回转运动,实现了底支撑体滑动运行到回转运动的转变。
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