[实用新型]超临界二氧化碳涂胶系统有效

专利信息
申请号: 200920313385.1 申请日: 2009-10-27
公开(公告)号: CN201569851U 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 王磊;景玉鹏 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 王建国
地址: 100029 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 临界 二氧化碳 涂胶 系统
【权利要求书】:

1.一种超临界二氧化碳涂胶系统,其特征在于,所述系统包括:

储料装置,所述储料装置至少包括容纳二氧化碳的第一存储罐和容纳光刻胶的第二存储罐;

超临界二氧化碳涂胶腔,其包括:腔体;喷射二氧化碳和光刻胶的喷头,所述喷头位于所述腔体内,并通过控制二氧化碳和光刻胶喷射的泵连通至所述腔体外的所述储料装置;以及支承硅片的支架,所述支架位于所述腔体内且位于所述喷头的下方;

分别与所述腔体连通的温度控制装置和压力检测装置。

2.根据权利要求1所述的超临界二氧化碳涂胶系统,其特征在于,所述系统还包括混合二氧化碳与光刻胶的混合器,其连接在所述控制二氧化碳和光刻胶喷射的泵与所述喷头之间。

3.根据权利要求2所述的超临界二氧化碳涂胶系统,其特征在于,所述系统还包括净化器,其连接在所述混合器与所述喷头之间。

4.根据权利要求3所述的超临界二氧化碳涂胶系统,其特征在于,所述系统还包括分离杂质的分离器,所述分离器连接于所述腔体与所述第一存储罐之间,并通过与所述第一存储罐的管路上的阀连通所述第一存储罐。

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