[实用新型]X光光栅光谱型Wolter镜成像装置

说明书

技术领域

本实用新型属于用于对X光成像技术领域，具体涉及一种X光光栅光谱型Wolter镜成像装置。

背景技术

X光由于较高的能量和较短的波长，因此普通光学元器件对x光失去了意义。X光现在主要应用在临床医学、科学研究和工业上的无损伤检测等等多个方面，它的成像技术一直是人们的主要追求，一系列专门针对X光的元器件被研究出来，Wolter镜就是其中之一。

Wolter镜基本都由抛物柱面和一段双曲线柱面连接而成。它通过在反射面对掠入射X光反射以会聚X光，达到提高X光成像效率和质量的目的。但是，普通型的Wolter镜对X光的会聚要求掠入射光在1°以下，会聚作用不强，而且由于对反射表面要求较高，工艺加工有一定难度。

现代薄膜技术的发展，已经实现了多层膜、多层光栅膜和薄膜的制备。这些薄膜可以极大提高X光反射的入射角度要求、反射率和单色性。但是，在抛物柱面和双曲线柱面进行光栅制作特别困难。

发明内容

为了提高普通Wolter镜对X光会聚成像和分辨能力，本实用新型提供一种X光光栅光谱型Wolter镜成像装置。

本实用新型的X光光栅光谱型Wolter镜成像装置，所述装置含有X光源、光栅光谱型Wolter镜I和光栅光谱型Wolter镜II、X光光阑I和X光光阑II、样品架和X光成像CCD。所述的成像装置的X光源、光栅光谱型Wolter镜I、X光光阑I、样品架、X光光阑II、光栅光谱型Wolter镜II、X光成像CCD依次设置在同一光轴上；所述光栅光谱型Wolter镜I和光栅光谱型Wolter镜II分别由Wolter镜与Wolter镜反射面上的X光反射光栅薄膜构成。

本实用新型X光光栅光谱型Wolter镜成像装置用于X光成像技术范畴，可应用于临床医学、科学研究和工业无损伤检测。

本实用新型所述的X光光栅光谱型Wolter镜成像装置，可以极大提高X光会聚能力、单色性，提高成像系统的像质量，使X光成像更清晰，分辨率更高。

附图说明

图1为本实用新型的X光光栅光谱型Wolter镜成像装置结构示意图。

图2为本实用新型中的光栅光谱型Wolter镜局部剖面示意图。

图中，1.X光光源  2.光栅光谱型Wolter镜I  3.X光光阑I  4.样品架5.X光光阑II  6.光栅光谱型Wolter镜II  7.X光成像CCD  8.X光反射光栅薄膜

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作具体描述。

图1中，本实用新型的X光光栅光谱型Wolter镜成像装置，包括一个X光光源1、两个光栅光谱型Wolter镜(即光栅光谱型Wolter镜I 2和光栅光谱型Wolter镜II 6)、两个X光光阑(即X光光阑I 3和X光光阑II 5)、一个样品架4和一个X光成像CCD 7，所述的成像装置的X光源1、光栅光谱型Wolter镜I 2、X光光阑I 3、样品架4、X光光阑II 5、光栅光谱型Wolter镜II 6、X光成像CCD7依次设置在同一光轴上；所述光栅光谱型Wolter镜I 2和光栅光谱型Wolter镜II 6分别由普通型Wolter镜与Wolter镜反射面上的反射型的X光反射光栅薄膜构成。

图2为本实用新型的光栅光谱型Wolter镜局部剖面示意图，图中显示X光的光栅光谱型Wolter镜I 2由普通型Wolter镜与Wolter镜反射面上的X光反射光栅薄膜8构成。光栅光谱型Wolter镜II 6的结构与光栅光谱型Wolter镜I 2相同。

本实用新型的工作原理如下，从一点X光光源1发出的X光，经第一个光栅光谱型Wolter镜I 2上的X光反射光栅薄膜8会聚和穿过第一个X光光阑I 3后，会聚在样品架4的样品上；经过样品的带有样品信息的X光，再经过第二个X光光阑II 5和第二个光栅光谱型Wolter镜II 6上的X光反射光栅薄膜的会聚，在X光成像CCD 7上成像，图像由计算机获取和处理。