[实用新型]离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机有效

专利信息
申请号: 200920350080.8 申请日: 2009-12-29
公开(公告)号: CN201614404U 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 张健;孟凡荣;张军;周景玉;佟辉 申请(专利权)人: 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 白振宇
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 离子束 辅助 离子镀 真空镀膜
【权利要求书】:

1.一种离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机,包括真空室、真空抽气系统及机架,真空室安装在机架上,真空抽气系统与真空室密封连接;其特征在于:所述真空室(4)内设有与其密封连接的中心转轴(14),中心转轴(14)的底端与安装在机架(6)上的驱动电机(5)的输出轴相连接;所述中心转轴(14)的两侧对称设有安装在真空室(4)内壁的离子束(2)和弧源(12),中心转轴(14)上设有与其共同转动的工件架(11);该工件架(11)位于离子束(2)和弧源(12)的下方。

2.按权利要求1所述的离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机,其特征在于:所述离子束(2)和弧源(12)为多层、上下设置,每一层离子束(2)和弧源(12)的下方均设有一个与中心转轴(14)共同转动的工件架(11)。

3.按权利要求1或2所述的离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机,其特征在于:所述工件架(11)的上方设有安装在中心转轴(14)上的加热器(13)。

4.按权利要求3所述的离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机,其特征在于:所述加热器(13)通过真空室(4)上的加热电源电极(10)通电工作。

5.按权利要求1或2所述的离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机,其特征在于:所述离子束(2)为条形,所述弧源(12)为圆柱形。

6.按权利要求1所述的离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机,其特征在于:所述真空室(4)上设有可开关的真空室前门(1),在真空室前门(1)上及真空室(4)外壁上分别设有对真空室进行水冷的水冷道(3)。

7.按权利要求6所述的离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机,其特征在于:所述真空室前门(1)上设有用于观察真空室内情况的观察窗(15)。

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