[发明专利]使用多个共定位辐射源来照射板件

权利要求书

1.一种用于照射板件的方法，包括：

使板件置于第一位置处；

使来自第一共定位辐射源的第一辐射照射在位于所述第一位置处的所述板件的第一界定区域内，其中所述第一共定位辐射源是定位在承载所述板件的平台之上的多个共定位辐射源中的一个，其中所述第一界定区域是所述板件的多个界定区域中的一个；

使所述板件移动到第二位置；以及

使从第二共定位辐射源获得的第二辐射照射在位于所述第二位置处的所述板件的第二界定区域内，其中所述板件固定在所述第二位置处，其中所述第二共定位辐射源是所述多个共定位辐射源中的不同的一个，其中所述第二界定区域是所述板件的所述多个界定区域中的不同一个。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一辐射是光束。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一辐射是光图案。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述多个共定位辐射源中的至少一个是激光光源。

5.根据权利要求1所述的方法，其中将所述板件移动到第二位置包括将所述板件平移到所述第二位置。

6.根据权利要求1所述的方法，其中将所述板件移动到第二位置包括将所述板件旋转到所述第二位置。

7.根据权利要求1所述的方法，其中对所述第一共定位辐射源的第一强度进行调节。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一共定位辐射源是以第一波长运行的激光光源。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述板件是基板。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述板件是晶片。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一辐射是激光，还包括将n型掺杂剂薄膜置于所述板件的面向所述激光的第一表面的顶部上。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一辐射是激光，其中所述板件的所述第一界定区域包括轻微掺杂了n型掺杂剂的第一层，其中所述第一层邻近所述板件的第一表面，并且其中所述第一表面面向所述激光。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述板件的所述第一界定区域还包括掺杂了p型掺杂剂的第二层。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一辐射是激光，还包括将介电反射层置于所述板件的面向所述激光的第一表面的顶部上并将金属背场层置于所述介电反射层的顶部上。

15.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一辐射是激光，其中所述板件的所述第一界定区域包括掺杂了p型掺杂剂的第一层，其中所述第一层邻近所述板件的第一表面，并且其中所述第一表面面向所述激光。

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述板件的所述第一界定区域还包括掺杂了n型掺杂剂的第二层。

17.一种用于激光刻线的设备，包括：

平台；

载物台，板件相对固定在所述载物台上，其中所述载物台可被操作将所述板件移动到所述平台上相对静止的多个位置中的每个位置，以使所述板件在每个这种位置处均被来自共定位辐射源的辐射照射；以及

多个共定位辐射源，其中所述多个共定位辐射源中的第一共定位辐射源能够被操作仅照射在所述板件的多个界定区域的第一界定区域中，并且其中所述板件的所述多个界定区域中的每一个对应于所述多个位置中的一个不同位置。

18.根据权利要求17所述的设备，其中所述第一共定位辐射源是光束。

19.根据权利要求17所述的设备，其中所述至少第一辐射源是光图案。

20.根据权利要求17所述的设备，其中所述第一共定位辐射源是激光光源。

21.根据权利要求17所述的设备，其中所述载物台可被操作来执行平移，以使所述板件从第一位置移动到第二位置，并且其中所述第一位置和所述第二位置是所述多个位置中的两个不同的点。

22.根据权利要求17所述的设备，其中所述载物台可被操作来执行旋转，以使所述板件从第一位置移动到第二位置，并且其中所述第一位置和所述第二位置是所述多个位置中的两个不同的点。