[发明专利]研磨玻璃衬底的方法和制造玻璃衬底的方法无效
| 申请号： | 200980000302.6 | 申请日： | 2009-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN101827686A | 公开（公告）日： | 2010-09-08 |
| 发明（设计）人： | 堀江满;朝长浩之;伊藤正文;下平宪昭 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;C09K3/14;G11B5/84 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 杨海荣;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 玻璃 衬底 方法 制造 | ||
1.一种研磨玻璃衬底的方法，其包括利用玻璃衬底研磨装置对所 述玻璃衬底进行研磨，所述方法包括：
在玻璃衬底的最终研磨步骤中向所述玻璃衬底研磨装置内注入二 氧化硅研磨剂和沸点为150℃以上的高沸点溶剂，
其中以所述高沸点溶剂和所述二氧化硅研磨剂的总质量计，所述 高沸点溶剂的含量范围为0.1质量％～4.0质量％。
2.如权利要求1所述的研磨玻璃衬底的方法，其中所述高沸点溶 剂为分子量300以下的溶剂。
3.如权利要求2所述的研磨玻璃衬底的方法，其中所述高沸点溶 剂为含一个以上羟基或者一个以上醚键或者一个以上羰基或者一个以 上酯键的溶剂。
4.如权利要求3所述的研磨玻璃衬底的方法，其中所述高沸点溶 剂为含两个以上羟基的溶剂。
5.如权利要求3所述的研磨玻璃衬底的方法，其中所述高沸点溶 剂包括乙二醇、丙二醇和丙三醇中的任一种。
6.如权利要求1所述的研磨玻璃衬底的方法，其中以所述高沸点 溶剂和所述二氧化硅研磨剂的总质量计，所述高沸点溶剂的含量范围 为0.5质量％～3.0质量％。
7.如权利要求1～6中任一项所述的研磨玻璃衬底的方法，其中 所述二氧化硅研磨剂包含二氧化硅粒子且所述二氧化硅粒子为胶体二 氧化硅。
8.一种制造玻璃衬底的方法，包括使用权利要求1～7中任一项 所述的研磨玻璃衬底的方法。
9.一种制造磁盘用玻璃衬底的方法，所述方法包括：
在各自具有研磨垫的上平台和下平台之间安装磁盘用玻璃衬底的 安装步骤；
在所述安装步骤之后，在向所述上平台和下平台的研磨垫之间供 给二氧化硅研磨剂和沸点为150℃以上的高沸点溶剂的同时，对所述磁 盘用玻璃衬底的两个面进行研磨的最终研磨步骤；和
在所述最终研磨步骤之后，将布置在所述上平台和下平台之间的 磁盘用玻璃衬底取出的取出步骤，
其中以所述高沸点溶剂和所述二氧化硅研磨剂的总质量计，所述 高沸点溶剂的含量范围为0.1质量％～4.0质量％。
10.如权利要求9所述的制造磁盘用玻璃衬底的方法，其中所述 二氧化硅研磨剂包含二氧化硅粒子且所述二氧化硅粒子为胶体二氧化 硅。
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