[发明专利]衬底固持器,衬底支撑设备,衬底处理设备以及使用所述衬底处理设备的衬底处理方法有效

专利信息
申请号: 200980102163.8 申请日: 2009-01-15
公开(公告)号: CN101919041A 公开(公告)日: 2010-12-15
发明(设计)人: 韩泳琪;徐映水;金亨源;尹致国;李庠勋 申请(专利权)人: 索绍股份有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/687;H01L21/3065
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 衬底 固持器 支撑 设备 处理 以及 使用 方法
【权利要求书】:

1.一种衬底固持器,其包括:

环形台,其经配置以在其上接纳衬底的边缘部分;

侧壁,其连接到所述台的下部表面用于支撑所述台的所述下部表面;以及

排气孔,其形成在所述侧壁中。

2.根据权利要求1所述的衬底固持器,其中所述排气孔具有狭缝形状,且在平行于或垂直于所述侧壁的圆周方向的方向上延伸。

3.根据权利要求1所述的衬底固持器,其进一步包括突出物,所述突出物安置在所述台的内圆周处且具有不同于所述台的上部表面的高度的高度,其中所述衬底放置在所述突出物的上部部分上。

4.根据权利要求1所述的衬底固持器,其进一步包括安置在所述台的上部表面处的突出物,其中所述衬底放置在所述突出物的上部部分上或所述突出物的内侧处。

5.根据权利要求3或4所述的衬底固持器,其中所述突出物划分为多个部分。

6.根据权利要求1所述的衬底固持器,其中所述侧壁朝向其内部向下倾斜,或所述侧壁朝向其外部向下倾斜。

7.根据权利要求1到6中任一权利要求所述的衬底固持器,其中所述台或所述侧壁在圆周方向或垂直方向上划分,或在圆周方向和垂直方向两者上划分。

8.根据权利要求7所述的衬底固持器,其中当所述台或所述侧壁在所述圆周方向上划分时,所述衬底固持器进一步包括所述台或所述侧壁处的至少一个圆周耦合结构。

9.根据权利要求8所述的衬底固持器,其中所述圆周耦合结构包括:

耦合凹槽,其垂直地形成在所述经划分的台或侧壁的一侧中;以及

耦合部分,其邻近于所述耦合凹槽而安置在所述经划分的台或侧壁的一侧处,且经配置以与所述耦合凹槽啮合。

10.根据权利要求7所述的衬底固持器,其中当所述侧壁垂直划分时,所述侧壁包括至少一个垂直耦合结构,其中所述垂直耦合结构包括垂直地对应且经配置以彼此啮合的上部和下部夹爪。

11.一种衬底支撑设备,其包括:

电极单元;

缓冲器部件,其安置在所述电极单元的外圆周处;

衬底固持器,其安置在所述缓冲器部件上用于通过支撑衬底的边缘部分来将所述衬底与所述电极单元分隔开;以及

升降部件,其经配置以向上和向下移动所述电极单元和所述衬底固持器。

12.根据权利要求11所述的衬底支撑设备,其中所述缓冲器部件包括:

主体,在其中界定预定空间且其具有开放的顶部侧;

弹性部件,其安置在所述预定空间中;以及

固持器支撑件,其安置在所述弹性部件的上部部分处且从所述主体的所述开放的顶部侧向上延伸。

13.根据权利要求12所述的衬底支撑设备,其中所述衬底固持器的下部表面支撑在所述固持器支撑件的上部表面上。

14.根据权利要求11所述的衬底支撑设备,其中所述电极单元包括:

电极;以及

绝缘板,其耦合到所述电极的下部表面,

其中所述缓冲器部件耦合到所述电极或所述绝缘板的外圆周。

15.一种衬底处理设备,其包括:

腔室;

屏蔽部件,其安置在所述腔室中;

电极,其面对所述屏蔽部件;以及

衬底固持器,其安置在所述屏蔽部件与所述电极之间,

其中所述衬底固持器包括:

环形台,其经配置以在其上接纳衬底的边缘部分;

侧壁,其连接到所述台的下部表面用于支撑所述台的所述下部表面;以及

排气孔,其形成在所述侧壁中。

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