[发明专利]气雾压浴系统有效
申请号: | 200980103074.5 | 申请日: | 2009-12-02 |
公开(公告)号: | CN101925343A | 公开(公告)日: | 2010-12-22 |
发明(设计)人: | 中村正一 | 申请(专利权)人: | 中村正一;日本ACP株式会社 |
主分类号: | A61H33/14 | 分类号: | A61H33/14;A61H33/02;A61H33/10;A61H35/00;A61K33/00 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 周建秋;王凤桐 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气雾压浴 系统 | ||
1.一种气雾压浴系统,该气雾压浴系统为用于使气雾与机体的皮肤和粘膜接触的系统,所述气雾为通过将规定值以上浓度的气体与液体雾化并溶解而得到的雾,所述气体为二氧化碳、或者氧气、或者二氧化碳和氧气的混合气体,其特征在于,该气雾压浴系统包括:
气体供给单元;
液体供给单元;
气雾供给单元,该气雾供给单元用于通过流体喷嘴将由所述气体供给单元供给的气体和由所述液体供给单元供给的液体雾化并溶解,以生成并供给气雾;以及
机体罩部件,该机体罩部件用于覆盖所述机体的皮肤和粘膜,以形成将由所述气雾供给单元供给的气雾封入内部的空间;
并且该气雾压浴系统使所述机体罩部件内的气雾以规定值以上的压力与机体的皮肤和粘膜接触。
2.根据权利要求1所述的气雾压浴系统,其特征在于,该气雾压浴系统还包括:传感器,该传感器用于测量所述气体、液体、以及气雾的供给状态;以及,控制单元,该控制单元用于根据所述传感器的测量值进行所述气体、液体、以及气雾的供给控制。
3.根据权利要求1或2所述的气雾压浴系统,其特征在于,该气雾压浴系统还包括用于对所述机体罩部件进行加压的加压单元。
4.根据权利要求2所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述控制单元间歇性地向所述机体罩部件内供给所述气雾,以对所述机体罩部件进行间歇加压。
5.根据权利要求3所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述加压单元间歇性地挤压所述机体罩部件,以对该机体罩部件进行间歇加压。
6.根据权利要求1-3中任意一项所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述液体为水、离子水、生理食盐水、臭氧水、纯净水、或者无菌纯净水中的任意一种或多种的组合。
7.根据权利要求6所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述液体还含有薄荷醇、维生素E、维生素C衍生物、松香油、麻醉剂、环糊精、光催化剂和磷灰石的复合体、透明质酸、辅酶Q10、棉籽油、蜂巢蜡胶、乙醇、葡萄糖酸氯己定、两性表面活性剂、苯扎氯铵、乙酸烷基二氨基醚甘氨酸、次氯酸钠、过乙酸、倍半碳酸钠、二氧化硅、聚维酮碘、碳酸氢钠、高浓度碳酸泉剂、抗变态反应药、抗炎药、解热镇痛药、抗真菌药、抗流感病毒药、抗癌药、降压药、化妆剂、增毛剂、生毛剂、或育毛剂中的任意一种或多种。
8.根据权利要求6或7所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述液体以加热的状态供给到所述气雾供给单元。
9.根据权利要求1-3中任意一项所述的气雾压浴系统,其特征在于,由所述气雾供给单元供给到所述机体罩部件内的所述雾的粒径为10μm以下。
10.根据权利要求2所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述控制单元将气雾压浴时的所述机体罩部件内的压力保持在1.02个大气压至2.5个大气压。
11.根据权利要求1-3中任意一项所述的气雾压浴系统,其特征在于,该气雾压浴系统还包括电荷施加单元,该电荷施加单元用于对所述气雾供给单元供给的雾施加电荷。
12.根据权利要求11所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述电荷为负电荷。
13.根据权利要求1-3中任意一项所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述气雾供给单元具有用于向所述机体罩部件内供给气雾的气雾供给管,该气雾供给管具备用于除去附着在管内的液滴的过滤器。
14.根据权利要求1-3中任意一项所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述气雾供给单元具有用于向所述机体罩部件内供给气雾的气雾供给管,该气雾供给管的全部或部分由波纹管构成。
15.根据权利要求1-3中任意一项所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述气雾供给单元具有用于向所述机体罩部件内供给气雾的气雾供给管,该气雾供给管上设置有单向阀。
16.根据权利要求1-3中任意一项所述的气雾压浴系统,其特征在于,在所述机体罩部件的气雾的供给口上设置有单向阀。
17.根据权利要求1-3中任意一项所述的气雾压浴系统,其特征在于,所述气雾供给单元为面向内部具有弯曲面的上部凸起的圆顶型形状,并且在该圆顶型的大致头顶部形成有气雾排出部。
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