[发明专利]具有流量均衡器与下内衬的蚀刻腔室有效
申请号: | 200980103385.1 | 申请日: | 2009-01-12 |
公开(公告)号: | CN101926232A | 公开(公告)日: | 2010-12-22 |
发明(设计)人: | 詹姆斯·D·卡达希;劳建邦;卡洛·贝拉;迈克尔·C·库特内;马修·L·米勒 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H05H1/34 | 分类号: | H05H1/34;H01L21/3065 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 宋鹤;南霆 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 流量 均衡器 内衬 蚀刻 | ||
1.一种内衬,包含:
内衬主体,具有:内壁,其延伸到第一高度;外壁,其延伸到不同于所述第一高度的第二高度;以及底壁,其耦接在所述内壁与所述外壁之间,其中,所述底壁与所述外壁各具有穿过其间的复数个气体通道,其中,所述外壁的至少两个气体通道具有不同尺寸,并且其中,所述底壁的至少两个气体通道具有不同尺寸。
2.根据权利要求1所述的内衬,其中,所述外壁的至少两个气体通道具有实质相同的宽度。
3.根据权利要求2所述的内衬,其中,所述底壁的至少两个气体通道具有实质相同的宽度。
4.根据权利要求3所述的内衬,其中,所述外壁的至少两个气体通道具有不同的长度。
5.根据权利要求4所述的内衬,其中,所述底壁的至少两个气体通道具有不同的长度。
6.根据权利要求1所述的内衬,其中,所述底壁的至少两个气体通道具有实质相同的宽度。
7.根据权利要求1所述的内衬,其中,所述底壁的至少两个气体通道具有不同的长度。
8.根据权利要求1所述的内衬,其中,所述内壁不具有穿过其间设置的气体通道。
9.根据权利要求1所述的内衬,其中,所述外壁为实质环状。
10.根据权利要求9所述的内衬,其中,所述内壁为实质环状。
11.根据权利要求9所述的内衬,其中,所述气体通道占所述外壁的面积小于约50%。
12.一种流量均衡器,包含:
悬部;以及
凸部,其耦接到所述悬部且从所述悬部径向向内延伸,所述凸部具有穿过其间的偏心开口。
13.根据权利要求12所述的流量均衡器,其中,所述开口在约0.75英寸至约1.25英寸之间偏心。
14.根据权利要求13所述的流量均衡器,其中,所述开口在约0.90英寸至约1.10英寸之间偏心。
15.一种蚀刻设备,包含:
腔室主体;
衬底支撑基座,其设置在所述腔室主体中;
气体引入喷头,其设置在所述腔室主体中与所述衬底支撑基座相对;
第一腔室内衬,其设置在所述腔室主体中,以使所述衬底支撑基座、所述气体引入喷头和所述第一腔室内衬至少部分地包围处理区域;
环状挡件,其耦接到所述衬底支撑基座且至少部分地环绕所述衬底支撑基座;
第二腔室内衬,其耦接到所述腔室主体且设置在所述第一腔室内衬下方;以及
流量均衡器,其设置在所述挡件下方且耦接到所述第一腔室内衬和所述第二腔室内衬两者。
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