[发明专利]基板的法线方位的调整方法有效
申请号: | 200980103426.7 | 申请日: | 2009-03-10 |
公开(公告)号: | CN101933091A | 公开(公告)日: | 2010-12-29 |
发明(设计)人: | 冈山佳树;滨田胜俊;塚本博则 | 申请(专利权)人: | 日本电产株式会社 |
主分类号: | G11B19/20 | 分类号: | G11B19/20;G11B33/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王轶;李伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 法线 方位 调整 方法 | ||
1.一种基板的法线方位的调整方法,根据使基板上的某一特定区域的法线方位变化的方向和量,对所述特定区域的周围的预定区域照射会聚的脉冲激光而使其局部熔融、冷却,由此使所述特定区域的法线方位变化,
所述基板的法线方位的调整方法的特征在于:
在照射所述脉冲激光的预定区域内,使照射所述脉冲激光的部位为多个,
根据使所述法线方位变化的方向决定所述预定区域的中心位置和范围,
通过增减所述预定区域内的照射所述脉冲激光的部位的数量来增减使所述法线方位变化的量,
对于照射所述脉冲激光的部位的分布密度,在增加所述照射的部位的情况下所述分布密度增高,在减少所述照射的部位的情况下所述分布密度降低,
所述脉冲激光的振荡条件与使所述法线方位变化的方向和量无关,实质上是恒定的。
2.根据权利要求1所述的基板的法线方位的调整方法,其特征在于:
预先掌握对所述预定区域照射所述脉冲激光的部位的数量与所述特定区域的法线变化的方向和量之间的关系,
基于所述关系,根据使所述法线方位变化的量决定照射所述脉冲激光的部位的数量。
3.根据权利要求1所述的基板的法线方位的调整方法,其特征在于:
所述预定区域以特定区域的中央附近作为中心,且大致呈环状,
多个所述照射部位位于所述大致呈环状的预定区域内,
所述照射部位的分布密度通过特定区域的中央与照射位置之间的距离以及彼此邻接的照射部位之间的距离来加以控制。
4.根据权利要求3所述的基板的法线方位的调整方法,其特征在于:
所述预定区域是以特定区域的中央作为中心的一定的角度范围。
5.根据权利要求4所述的基板的法线方位的调整方法,其特征在于:
所述预定区域以所述特定区域的中央作为中心遍及大致半周扩展。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板的法线方位的调整方法,其特征在于:
所述基板由通过所述脉冲激光的局部照射产生的加热、冷却而引起变形的材料形成。
7.根据权利要求6所述的基板的法线方位的调整方法,其特征在于:
所述基板为铝合金或者钢板。
8.根据权利要求7所述的基板的法线方位的调整方法,其特征在于:
所述基板是主轴电动机的基座基板。
9.根据权利要求8所述的基板的法线方位的调整方法,其特征在于:
所述基座基板具有固定主轴电动机的轴承部的平面,所述平面的周缘在周方向刚性不同。
10.根据权利要求7所述的基板的法线方位的调整方法,其特征在于:
所述基板是光盘驱动器用电动机的基座基板。
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