[发明专利]耐水性有机薄膜的制造方法无效
申请号: | 200980103719.5 | 申请日: | 2009-02-13 |
公开(公告)号: | CN101932449A | 公开(公告)日: | 2010-12-29 |
发明(设计)人: | 小松原诚;增田友昭 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | B32B37/00 | 分类号: | B32B37/00;C08J7/00;G02B5/30 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 耐水性 有机 薄膜 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种耐水性有机薄膜、尤其耐水性偏振膜的制造方法。
背景技术
一直以来,作为耐水性有机薄膜的制造方法,已知有在层叠于基材的一个面的有机薄膜表面上涂布耐水化处理液的方法(专利文献1)。然而,耐水化处理前的有机薄膜大多非常脆,因此,一旦接触到辊等支撑部件,就会剥离或者产生裂缝。另外,即使只是弯曲基材也有产生裂缝的可能。进而,即使只受到耐水化处理液的喷淋也可能剥离。由于上述理由,一直以来,难以对有机薄膜进行无机械损伤且连续的耐水化处理。
专利文献1:日本特开平11-21538号公报
发明内容
发明要解决的问题
在以往的耐水性有机薄膜的制造方法中,难以对有机薄膜进行无机械损伤且连续的耐水化处理。本发明的目的在于,解决此困难,提供能够对有机薄膜进行无机械损伤且连续的耐水化处理的耐水性有机薄膜的制造方法。
用于解决问题的方案
根据发明人等的研究可知,按照以下(a)~(c),就能够对有机薄膜进行无机械损伤且连续的耐水化处理。
(a)支撑部件不接触有机薄膜(支撑部件仅接触基材)。
(b)不弯曲层叠有有机薄膜的基材地输送。
(c)使层叠有有机薄膜的基材在反应槽内的耐水化处理液中平静地通过(不对有机薄膜施加喷淋等机械冲击)。
本发明的要点如下所示。
(1)本发明的耐水性有机薄膜的制造方法,其特征在于,其为将层叠于长条薄膜状基材的一个面上的有机薄膜浸渍于反应槽内的耐水化处理液中进行耐水化处理的耐水性有机薄膜的制造方法,支撑基材的不具有有机薄膜的一面,并连续进行包括下述步骤的有机薄膜的耐水性处理:将层叠有有机薄膜的基材从设置于耐水化处理液的液面下方的反应槽的壁面的输入开口部输入到耐水化处理液内的步骤;使层叠有有机薄膜的基材在耐水化处理液内通过的同时进行耐水化处理的步骤;以及,将层叠有有机薄膜的基材从设置在耐水化处理液的液面下方的反应槽的壁面的输出开口部输出的步骤。
(2)本发明的耐水性有机薄膜的制造方法,其特征在于,输入开口部和输出开口部的周围不接触有机薄膜。
(3)本发明的耐水性有机薄膜的制造方法,其特征在于,向反应槽供给相当于由于从输入开口部和输出开口部流出而减少部分的量的耐水化处理液,使得耐水化处理液的液面一直保持在有机薄膜的上方。
(4)本发明的耐水性有机薄膜的制造方法,其特征在于,将从输入开口部和输出开口部流出的耐水化处理液接收到设置于反应槽下方的溜槽中,并从溜槽返回反应槽。
(5)本发明的耐水性有机薄膜的制造方法,其特征在于,支撑基材的不具有有机薄膜的一面的部件为支撑辊。
(6)本发明的耐水性有机薄膜的制造方法,其特征在于,耐水化处理前的有机薄膜是含有具有-SO3M基或者-COOM基的化合物的有机薄膜,其中,M表示一价阳离子;耐水化处理液为含有二价或者三价阳离子的液体。
(7)本发明的耐水性有机薄膜的制造方法,其特征在于,耐水化处理前的有机薄膜含有下述通式(1)所示的化合物。
通式(1)中,Q表示可以有取代基的芳基;R表示氢原子、碳数1~3的烷基、乙酰基、苯甲酰基、或者可以有取代基的苯基;M表示提供一价阳离子的元素。
(8)本发明的耐水性有机薄膜的制造方法,其特征在于,耐水化处理前的有机薄膜含有下述通式(2)所示的化合物。
通式(2)中,R表示氢原子、碳数1~3的烷基、乙酰基、苯甲酰基、或者可以有取代基的苯基;M表示提供一价阳离子的元素;X表示氢原子、卤素原子、硝基、氰基、碳数1~4的烷基、碳数1~4的烷氧基、或者-SO3M基。
发明的效果
本发明的制造方法是能够使有机薄膜不剥离或者不产生裂缝,且适合于连续也就是大量地生产的方法,能够对有机薄膜进行耐水化处理。
附图说明
图1所示为本发明的一个实施例的示意图。
图2所示为本发明的其它实施例的示意图。
图3所示为本发明的另一实施例的示意图。
附图标记说明
11基材
12a有机薄膜
12b有机薄膜
13反应槽
14耐水化处理液
15支撑部件
16输入开口部
17输出开口部
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