[发明专利]清洁产品

说明书

相关申请

本申请主张2008年02月05日申请的日本国专利申请2008-025060号的优先权，在此援引。

技术领域

本发明涉及含有特定结构的有机硅氧烷衍生物的清洁产品，特别是起泡与清洁性的兼得。

背景技术

以前，为了有效利用代表硅油的二甲基聚硅氧烷固有的特性，开发了在部分结构上引入各种有机基团的有机(聚)硅氧烷。由于有机(聚)硅氧烷具有低表面张力、低折射率，而且还同时具有低摩擦性、耐热性、耐寒性、防静电性、疏水性、脱模性、消泡性、耐药品性等特性，因此被应用于各种领域。存在根据用途将各种官能团以及引入这些官能团的结构上的位置改性得到的有机(聚)硅氧烷。

例如，作为含有亲水性有机基团羧基的有机(聚)硅氧烷衍生物，一直以来进行了各种化合物的开发研究，作为代表性的物质，在直链聚硅氧烷结构的侧链引入了羧基的有机硅氧烷衍生物广为人知。另外，近年来，作为这种化合物的一个实例，还报道了含有羧基结构的硅氧烷树状大分子(dendrimer，デンドリマ一)(参见例如专利文献1～3)。而且，还报道了将羧基改性硅氧烷用三乙醇胺中和得到的化合物具有乳化能力(参见例如非专利文献1、2)。

另一方面，在以往的皮肤清洁产品或头发清洁产品中，通常配合阴离子表面活性剂或非离子表面活性剂作为清洁剂的主成分。而几乎所有的化妆制品、发蜡等中，以赋予化妆持久或耐水性、光滑和垂顺为目的，都配合有硅氧烷化合物，使用通常的表面活性剂作为清洁剂的情况下，存在不能充分洗掉这些硅氧烷化合物的问题。与此相对，通过配合硅油，或使用硅氧烷类的表面活性剂，虽然可以提高清洁效果，但由于其消泡作用，存在起泡性非常差的问题。

【专利文献1】特开2000-072784号公报

【专利文献2】特开2000-239390号公报

【专利文献3】特开2001-213885号公报

【非专利文献1】影岛一己、清水敏之，“羧基改性硅氧烷作为乳化时的表面活性剂的应用”，FREGRANCE JOURNAL，临时增刊19号，2005年，125～130页

【非专利文献2】影岛一己、坂本晴美、清水敏之，“羧基改性硅氧烷作为化妆品领域的表面活性剂的应用”，日本化妆品技术者会志，34卷，4号，2003年，309～314页

发明内容

本发明是鉴于上述现有技术中的课题做出的，其目的在于提供一种兼具优良的起泡性和清洁性的清洁产品。

为了解决上述现有技术中的课题，本发明人等进行了悉心研究，结果发现通过在清洁产品中配合含有羧基的特定结构的有机硅氧烷衍生物盐和脂肪酸皂等阴离子性表面活性剂，不仅清洁效果优良，而且起泡性也得到显著改善，从而完成了本发明。

也就是说，本发明涉及的清洁产品特征在于含有下述通式(1)或下述通式(3)表示的有机硅氧烷衍生物盐，以及具有碳原子数10～20的烷基的羧酸盐、硫酸盐、磺酸盐、或磷酸盐中的任意1种以上。

【化1】

(式中，R¹～R³至少1个是-O-Si(R⁴)₃表示的官能团(R⁴是碳原子数1～6的烷基或苯基中的任意一个)、或-O-Si(R⁵)₂-X¹表示的官能团(R⁵是碳原子数1～6的烷基或苯基中的任意一个，X¹是i＝1时的下述通式(2)表示的官能团)，其他的R¹～R³是可以相同也可以不同的取代或未取代的1价烃基。M是金属原子或有机阳离子。A是C_qH_2q表示的直链状或支链状的亚烷基，q是0～20的整数。另外，通式(1)表示的有机硅氧烷衍生物的1分子中含有的硅原子(Si)的平均总数是2～100。)

【化2】