[发明专利]构造和布置以产生辐射的装置、光刻设备以及器件制造方法无效

专利信息
申请号: 200980106786.2 申请日: 2009-02-23
公开(公告)号: CN101960926A 公开(公告)日: 2011-01-26
发明(设计)人: M·M·J·W·范赫彭;W·A·索尔 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H05G2/00 分类号: H05G2/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 构造 布置 产生 辐射 装置 光刻 设备 以及 器件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种被构造和被布置以使用通过气体介质的放电来产生辐射的装置,所述装置包括:

第一电极和第二电极;

液体供给装置,所述液体供给装置被布置成提供液体至所述装置中的位置;

所述装置被布置成电供给有电压,且将所述电压至少部分地供给至所述第一电极和所述第二电极,以便允许在由所述电压产生的电场中产生所述放电,所述放电产生辐射等离子体;以及

防护装置,所述防护装置被布置在所述放电位置和被连接至所述第一电极和/或所述第二电极的导电部件之间。

2.根据权利要求1所述的装置,其中所述装置还包括被构造和被布置以移动所述第一电极和/或所述第二电极的致动器,且其中所述液体供给装置是液体浴器,且所述致动器移动所述第一电极和/或所述第二电极通过所述浴器。

3.根据权利要求2所述的装置,其中所述防护装置在朝向所述液体浴器的方向上倾斜。

4.根据权利要求2或3所述的装置,其中所述防护装置被设置成所述浴器的组成部分。

5.根据权利要求2、3或4所述的装置,其中所述浴器中的液面延伸超过所述防护装置。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的装置,还包括第二液体浴器,其中所述防护装置延伸通过所述液体浴器之间的假想平面。

7.根据前述权利要求中任一项所述的装置,还包括点火源,所述点火源被配置成至少部分地蒸发所述液体,以形成所述气体介质,以便从由所述液体供给装置提供的液体触发所述辐射等离子体,从而导致所述放电。

8.根据权利要求7所述的装置,其中所述点火源被配置成产生激光辐射束和/或电子束,以触发所述放电。

9.根据前述权利要求中的任一项所述的装置,其中所述防护装置被布置成从所述放电位置阻挡电连接至所述第一电极的导电部件和电连接至所述第二电极的导电部件之间的间隙。

10.根据前述权利要求中的任一项所述的装置,其中,所述液体供给装置包括液体喷射器,所述液体喷射器被配置成将所述液体作为液滴形式喷射在所述第一电极和所述第二电极之间。

11.一种光刻设备,包括:

被构造和被布置以产生辐射的装置;

支撑结构,所述支撑结构被配置成支撑图案形成装置,所述图案形成装置被配置成在辐射束的横截面中将图案赋予所述辐射束;

衬底台,所述衬底台被配置成保持衬底;和

投影系统,所述投影系统被配置成将所述图案化的束投影到所述衬底的目标部分上,

其中,所述被构造和被布置以产生辐射的装置是根据前述权利要求中任一项所述的装置。

12.一种器件制造方法,所述方法包括步骤:

将液体供给至第一电极和/或第二电极;

施加电压至所述第一电极和所述第二电极以通过在由所述电压产生的电场中的放电位置处的气体介质产生放电;

提供布置在所述放电位置和连接至所述电极中的至少一个的导电部件之间的防护装置;

在所述辐射束的横截面中用图案使所述辐射束图案化;和

将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。

13.根据权利要求12所述的方法,还包括步骤:

至少部分地蒸发所述液体,以形成气体介质,以便从所述液体触发放电产生的辐射等离子体。

14.根据权利要求12或13所述的方法,还包括步骤:

通过移动所述第一电极和/或第二电极通过液体浴器,将所述液体供给至所述第一电极和/或第二电极。

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