[发明专利]X射线计算机断层成像装置和采用X射线计算机断层成像检测对象的方法有效
申请号: | 200980106833.3 | 申请日: | 2009-02-25 |
公开(公告)号: | CN101960297A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 |
发明(设计)人: | T·富赫斯;N·尤曼 | 申请(专利权)人: | 弗朗霍夫应用科学研究促进协会 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 杨晓光;张静娟 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 计算机 断层 成像 装置 采用 检测 对象 方法 | ||
1.一种用于通过X射线计算机断层成像检测对象的X射线计算机断层成像装置,包括
-X射线源(3),用于产生X射线辐射(6),
-X射线检测器(4),用于检测X射线辐射(6),
-对象载体(5),用于将待检测对象(2)设置在所述X射线源(3)和所述X射线检测器(4)之间,以及
-评估单元(18),用于评估所检测的X射线辐射(6),
其特征在于
-第一强度测量装置(13),其用于测量所述X射线辐射(6)的第一强度(I0),并被设置在所述X射线源(3)和所述对象载体(5)之间,
-第二强度测量装置(15),其用于测量所述X射线辐射(6)的第二强度(I1),并在所述对象载体(5)和所述X射线检测器(4)之间被设置所述对象(2)的投影区域(10)之外,
-所述强度测量装置(13,15)连至所述评估单元(18)以传送所测量的强度(I0,I1),以及
-所述评估单元(18)被配置为使得根据所测量强度(I0,I1)能够计算至少一个散射辐射校正因子(F)。
2.根据权利要求1的X射线计算机断层成像装置,其特征在于,第一间隔(A1)与第二间隔(A2)的比率小于1/2、特别是小于1/4以及特别是小于1/8,其中,所述第一间隔(A1)被定义为所述第一强度测量装置(13)和X射线源(3)之间的最短轴向距离,所述第二间隔(A2)被定义为所述第一强度测量装置(13)和所述对象载体(5)之间的最短轴向距离。
3.根据权利要求1或2的X射线计算机断层成像装置,其特征在于,所述第一强度测量装置(13)被设置在所述对象(2)的辐射区域(9)之外。
4.根据权利要求1至3中任一项的X射线计算机断层成像装置,其特征在于,第三间隔(A3)与第四间隔(A4)的比率小于1/2、特别是小于1/4以及特别是小于1/8,其中,所述第三间隔(A3)被定义为所述第二强度测量装置(15)和所述X射线检测器(4)之间的最短轴向距离,所述第四间隔(A4)被定义为所述第二强度测量装置(15)和所述对象载体(5)之间的最短轴向距离。
5.根据权利要求1至4中任一项的X射线计算机断层成像装置,其特征在于,所述强度测量装置(13,15)被配置为电子剂量计。
6.根据权利要求1至5中任一项的X射线计算机断层成像装置,其特征在于,所述强度测量装置(13,15)构造相同。
7.根据权利要求1至6中任一项的X射线计算机断层成像装置,其特征在于,所述第一强度测量装置(13)被设置为将未衰减初级X射线辐射(6a)的强度测量为第一强度(I0),而所述第二强度测量装置(15)被设置为使得将由未衰减初级X射线辐射(6a)的强度和次级X射线辐射(6c)的强度组成的强度测量为第二强度(I1)。
8.根据权利要求1至7中任一项的X射线计算机断层成像装置,其特征在于,所述强度测量装置(13,15)被设置在测量区域(11)内,其中所述初级未衰减X射线辐射(6a)从所述X射线源(3)到达所述X射线检测器(4)上,而不撞击所述待检测的对象(2)。
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