[发明专利]光刻设备和方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求于2008年3月5日申请的申请号为61/064,431的美国临时申请的权益，且通过引用将其全部内容并入本文中。

技术领域

本发明涉及光刻设备和方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。

为简单起见，投影系统可以在此处被称为“透镜”，然而这一术语应当被广义地解释成包括各种类型的投影系统，例如包括折射型光学装置、反射型光学装置以及反射折射型系统。所述辐射系统还可以包括根据用于引导、成形、或控制投影辐射束的这些设计类型中的任意类型进行操作的部件，且这样的部件在下文还可以被统称为或单独地称为“透镜”或“投影系统”。

为了将图案投影到衬底上，期望精确地对准图案形成装置和衬底(即相对于彼此进行定位)。另外，可能需要相对于辐射束和/或包含在光刻设备中的其它装置对准图案形成装置和衬底。

在传统的光刻设备中，衬底台和图案支撑件都设置有致动器组件，所述致动器组件被配置成相对于参考点精确地定位衬底和图案形成装置。致动器组件可以包括长行程致动器和短行程致动器。长行程致动器和短行程致动器被可操作地耦合，以能够通过使用长行程致动器在相对大距离上移动衬底或图案形成装置，且通过使用短行程致动器精确地定位衬底或图案形成装置。注意到，用于在长距离上移动物体的致动器(例如长行程致动器)通常自身不适合于进行精确地定位。

用于短行程致动器的驱动器在大的动态范围内供给电流。用于驱动器的控制器通常包括反馈回路，该反馈回路包括被配置成测量电流的瞬间值的电流传感器单元。将被供给的电流可以从在扫描阶段期间的非常小的值(例如在零点几安培的范围内)变化至在加速期间的数十安培的非常高的电流。电流传感器单元应当具有电流传感器，该电流传感器还能够测量在加速期间出现的最高的电流。因为电流传感器产生的噪声实际上是其最大测量范围的百分数，所以在扫描阶段期间测量相对低的电流时电流测量的信噪比相对低。电流传感器单元的噪声可能促成电机电流中的噪声，这是因为它被在反馈配置中使用。所获得的电机电流可能导致与光刻机器所期望的规格相比很大的定位误差。这尤其是适用于EUV-RS(极紫外)系统。

发明内容

本发明的一个方面，提供一种改进的驱动系统和用于驱动电动致动器的方法。

本发明的另一方面提供了一种改进的光刻设备。

根据本发明的一个方面，一种驱动系统被配置成可控地驱动电动致动器。所述驱动系统包括：电流传感器系统，所述电流传感器系统被配置成感测由所述电动致动器传导的电流，所述电流传感器系统包括至少第一电流传感器和第二电流传感器，所述第一电流传感器和第二电流传感器对于待感测的电流具有彼此不同的灵敏度；和驱动器，所述驱动器被配置成基于所述电流传感器系统的输出信号电动地驱动所述电动致动器，所述驱动器包括电流传感器控制器，所述电流传感器控制器被配置成控制所述至少第一和第二电流传感器中的每一个确定所述电流传感器系统的所述输出信号的程度。

所述驱动系统包括至少第一和第二电流传感器，其对于将被感测的电流的上范围具有彼此不同的值。驱动系统还包括电流传感器控制器，用于控制所述电流传感器中的每一个确定所述电流传感器系统的输出信号的程度。第一电流传感器可以具有等于典型地用于所述加速度模式的致动器电流的值的最大值m1(例如在加速期间所期望的最大电流)的范围。第二电流传感器可以具有低于所述第一电流传感器的最大值m2的范围。