[发明专利]用于安瓿的加热阀歧管有效
申请号: | 200980107476.2 | 申请日: | 2009-03-17 |
公开(公告)号: | CN101960564A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 |
发明(设计)人: | 肯里克·乔伊;孙·T·阮 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/205 | 分类号: | H01L21/205 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 安瓿 加热 歧管 | ||
1.一种用于产生用在气相沉积处理系统中的化学前驱物的装置,包括:
罐,所述罐包括围成其中的内部空间的侧壁、顶部和底部;
与所述内部空间流体连通的入口端和出口端;
加热阀组件,所述加热阀组件耦合到并流体连通到入口端和出口端,其中所述加热阀组件包括加热源、旁通通道和至少五个阀。
2.如权利要求1的装置,其中所述加热源包括至少一个嵌入式电加热器。
3.如权利要求2的装置,其中所述加热阀组件包括与所述嵌入式电加热器耦合的恒温器。
4.如权利要求1的装置,其中所述加热阀组件包括耦合到并流体连通到入口端的入口通道和耦合到并流体连通到出口端的出口通道。
5.如权利要求4的装置,其中第一气动阀和第一手动阀附接到所述加热阀组件并被设置成控制所述入口通道内的流体流动,并且所述入口通道耦合到并流体连通到所述旁通通道的第一端。
6.如权利要求5的装置,其中第二气动阀和第二手动阀附接到所述加热阀组件并被设置成控制所述出口通道内的流体流动,并且所述出口通道耦合并流体连通到所述旁通通道的第二端。
7.一种用于产生用在气相沉积处理系统中的化学前驱物的装置,包括:
加热阀组件,所述加热阀组件耦合到并流体连通到安瓿,其中所述加热阀组件还包括:
加热源;
入口通道,所述入口通道耦合并流体连通到所述安瓿;
第一气动阀和第一手动阀,所述第一气动阀和第一手动阀耦合到所述加热阀组件并被设置成控制所述入口通道内的流体流动;
出口通道,所述出口通道耦合到并流体连通到所述安瓿:
第二气动阀和第二手动阀,所述第二气动阀和第二手动阀耦合到所述加热阀组件并被设置成控制所述出口通道内的流体流动;
旁通通道,其中所述旁通通道的第一端耦合到所述入口通道,并且所述旁通通道的第二端耦合到所述出口通道;和
旁通阀,所述旁通阀耦合到所述加热阀组件并被设置成控制所述旁通通道内的流体流动。
8.如权利要求7的装置,其中所述旁通通道的第一端耦合到在所述第一气动阀和所述第一手动阀之间的入口通道,并且所述旁通通道的第二端耦合到在所述第二气动阀和所述第二手动阀之间的入口通道。
9.如权利要求7的装置,其中所述安瓿包括围成其中的内部空间的侧壁、顶部和底部。
10.如权利要求9的装置,其中所述安瓿还包括至少部分填充所述内部空间的固体化学前驱物,且所述固体化学前驱物包括四氯化钛。
11.如权利要求9的装置,其中所述安瓿还包括至少部分填充所述内部空间的固体化学前驱物,且所述固体化学前驱物包括五(二甲基氨基)钽。
12.如权利要求7的装置,其中所述加热源包括至少一个嵌入式电加热器。
13.一种用于在气相沉积处理系统中产生化学前驱物的方法,包括:
加热阀组件至从约150℃至约225℃范围内的温度,其中所述阀组件耦合到并流体连通到包含四氯化钛的安瓿,并且所述阀组件还包括:
至少一个嵌入式加热器;
入口通道,所述入口通道耦合到并流体连通到所述安瓿;
第一气动阀和第一手动阀,所述第一气动阀和第一手动阀耦合到所述阀组件并被设置成控制所述入口通道内的流体流动;
出口通道,所述出口通道耦合到并流体连通到所述安瓿;
第二气动阀和第二手动阀,所述第二气动阀和第二手动阀耦合到所述阀组件并被设置成控制所述出口通道内的流体流动;
旁通通道,其中所述旁通通道的第一端耦合到所述入口通道并且所述旁通通道的第二端耦合到所述出口通道;和
旁通阀,所述旁通阀耦合到所述阀组件并被设置成控制所述旁通通道内的流体流动;
使载气从气体源流经所述入口通道并流向安瓿内,以形成含有氯化钛的沉积气体;和
使含有氯化钛的所述沉积气体从安瓿流经出口通道,并流向处理系统。
14.如权利要求13的方法,其中所述阀组件被加热到在从约175℃至约200℃范围内的温度。
15.如权利要求13的方法,还包括:
停止所述载气流;
冷却所述安瓿至约40℃或以下的温度;
关闭所述第一和第二气动阀以及所述第一和第二手动阀;和
从处理系统移除所述安瓿。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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