[发明专利]复合结构物形成方法、调制粒子以及复合结构物形成系统有效
申请号: | 200980108025.0 | 申请日: | 2009-03-06 |
公开(公告)号: | CN101960048A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 |
发明(设计)人: | 鸠野广典;水兼正博;冈本修 | 申请(专利权)人: | TOTO株式会社 |
主分类号: | C23C24/04 | 分类号: | C23C24/04;B01J13/00;B02C19/06;B05B1/26;B05B7/14;B05D7/12 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 李雪春;武玉琴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 复合 结构 形成 方法 调制 粒子 以及 系统 | ||
1.复合结构物形成方法,其为通过气溶胶沉积法来形成复合结构物的方法,所述气溶胶沉积法通过向基材上喷射将脆性材料微粒分散在气体中形成的气溶胶,从而在基材上形成由所述脆性材料微粒的构成材料所形成的结构物,其特征在于,通过将复数使包含所述脆性材料微粒的复数粒子凝聚成的作为集合体的调制粒子收容在收容机构中,
从所述收容机构向气溶胶化机构供给所述调制粒子,
在所述气溶胶化机构中将所述供给的所述调制粒子破碎而形成气溶胶,
向基材上喷射所述气溶胶从而形成所述结构物和所述基材的复合结构物。
2.根据权利要求1所述的复合结构物形成方法,其特征在于,将所述调制粒子和从气体供给机构导入的气体混合而形成固气混相流,
将所述固气混相流供给到所述气溶胶化机构。
3.根据权利要求1或2所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子具有必要的平均抗压强度,以便在从所述收容结构供给时不被实质性破碎。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子具有必要的平均抗压强度,以便在向所述气溶胶化机构供给的途中不被实质性破碎,在气溶胶化机构中被实质性破碎。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子通过在所述气溶胶化机构中受到机械冲击而被破碎。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子的平均抗压强度为0.47MPa以下。
7.根据权利要求1~5中任一项所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子的平均抗压强度为0.34MPa以下。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子的平均抗压强度为0.015MPa以上。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子的平均圆形度为0.65以上。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子中含有的所述脆性材料微粒之间未形成化学键。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子的平均投影面积圆相当径为20μm以上、500μm以下。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子的D10为6.6μm以上。
13.根据权利要求1~12中任一项所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子的粒度分布偏差率为0.59以下。
14.根据权利要求1~13中任一项所述的复合结构物形成方法,其特征在于,所述调制粒子的安息角为48度以下。
15.调制粒子,其为气溶胶沉积法中使用的调制粒子,所述气溶胶沉积法通过向基材上喷射将脆性材料微粒分散在气体中形成的气溶胶,从而在基材上形成由所述脆性材料微粒的构成材料所形成的结构物,其特征在于,
所述调制粒子是使包含平均一次粒子径为0.1μm以上、5μm以下的所述脆性材料微粒的复数粒子凝聚而成的集合体。
16.根据权利要求15所述的调制粒子,其特征在于,所述调制粒子具有必要的平均抗压强度,以便在从收容机构供给时不被实质性破碎。
17.根据权利要求15或16所述的调制粒子,其特征在于,所述调制粒子具有必要的平均抗压强度,以便在向气溶胶化机构供给的途中不被实质性破碎,在气溶胶化机构中被实质性破碎。
18.根据权利要求15~17中任一项所述的调制粒子,其特征在于,所述调制粒子的平均抗压强度为0.47MPa以下。
19.根据权利要求15~18中任一项所述的调制粒子,其特征在于,所述调制粒子的平均抗压强度为0.34MPa以下。
20.根据权利要求15~19中任一项所述的调制粒子,其特征在于,所述调制粒子的平均抗压强度为0.015MPa以上。
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