[发明专利]X射线成像装置、X射线成像方法和X射线成像装置的控制方法有效
申请号: | 200980108149.9 | 申请日: | 2009-03-11 |
公开(公告)号: | CN101960298A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 |
发明(设计)人: | 向出大平;高田一广;渡边壮俊 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04;G01N23/20;G21K7/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 康建忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 成像 装置 方法 控制 | ||
1.一种X射线成像装置,包括:
X射线产生单元,用于产生X射线;
X射线分割元件,用于空间分割从X射线产生单元发射的X射线;
检测器,用于检测由X射线分割元件分割的并透过被检体的X射线;和
计算单元,用于从由检测器检测的数据计算确定可归因于被检体的X射线偏移量和被检体的X射线透射率,并进一步从由X射线偏移量确定的ρet(ρe:电子密度,t:被检体的厚度)和由X射线透射率确定的μt(μ:线性衰减系数)计算确定被检体的有效原子序数。
2.根据权利要求1的X射线成像装置,其中,
计算单元基于从ρet和μt计算确定的μ/ρe计算确定有效原子序数。
3.根据权利要求1的X射线成像装置,还包括:
移动机构,用于同步移动X射线产生单元、X射线分割元件和检测器。
4.根据权利要求3的X射线成像装置,其中,
计算单元通过从ρet图像重建来计算确定被检体的电子密度。
5.根据权利要求4的X射线成像装置,其中,
图像重建通过滤波反投影法被实现。
6.根据权利要求1~5中的任一项的X射线成像装置,其中,
计算单元通过使用位置偏移量以及被检体和检测器之间的距离来计算确定被检体的微分相位对比图像,所述位置偏移量是通过比较在不存在被检体的状态下观察的X射线的检测位置和透过被检体的X射线的检测位置而获得的。
7.根据权利要求6的X射线成像装置,其中,
计算单元通过对微分相位对比图像进行积分获得被检体的X射线相位对比图像。
8.根据权利要求1~7中的任一项的X射线成像装置,其中,
X射线分割元件是具有二维布置的孔的元件。
9.根据权利要求1~8中的任一项的X射线成像装置,其中,
X射线分割元件是通过使用选自Pt、Au、Pb、Ta和W的材料形成的。
10.根据权利要求1~9中的任一项的X射线成像装置,还包括:
显示单元,用于显示关于由计算单元计算确定的被检体的有效原子序数的信息。
11.根据权利要求1~10中的任一项的X射线成像装置,还包括:
被检体移动机构,用于移动被检体。
12.根据权利要求1~11中的任一项的X射线成像装置,还包括:
单色器,被布置在X射线产生单元和X射线分割元件之间以将X射线单色化。
13.一种X射线成像方法,包括:
通过X射线产生单元产生X射线的步骤;
通过X射线分割元件空间分割X射线的步骤;
通过检测器检测被X射线分割元件分割的并透过被检体的X射线的步骤;
从由检测器检测的数据计算确定可归因于被检体的X射线偏移量和被检体的X射线透射率,并进一步从由X射线偏移量确定的ρet(ρe:电子密度,t:被检体的厚度)和由X射线透射率确定的μt(μ:线性衰减系数)计算确定被检体的有效原子序数的步骤。
14.一种控制X射线成像装置的方法,该方法包括:
控制X射线产生单元以产生X射线的步骤;
控制X射线检测器以检测被X射线分割元件分割并随后透过被检体的X射线的步骤;
控制计算单元以计算确定可归因于被检体的X射线偏移量和被检体的X射线透射率的步骤;和
从由X射线偏移量确定的ρet(ρe:电子密度,t:被检体的厚度)和由X射线透射率确定的μt(μ:线性衰减系数)计算确定被检体的有效原子序数的步骤。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980108149.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基于模糊分类的帧间误码掩盖方法
- 下一篇:用于安全阀的测试设备和方法