[发明专利]用于使用金属箔片制造具有疏水性表面的3D结构的方法有效

专利信息
申请号: 200980108590.7 申请日: 2009-03-12
公开(公告)号: CN101970726A 公开(公告)日: 2011-02-09
发明(设计)人: 金东燮;李建弘;黄云峰;林根培;朴贤哲;李炳柱;李尚珉;金俊源 申请(专利权)人: 浦项工科大学校产学协力团
主分类号: C25D11/02 分类号: C25D11/02
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 杨勇;郑建晖
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 用于 使用 金属 制造 具有 疏水 表面 结构 方法
【权利要求书】:

1.一种用于制造3D(三维)结构的方法,所述方法包括:

通过将金属箔片附着到预定形状的3D结构的外表面上来制备金属箔片基底;

对该金属箔片基底进行阳极氧化处理,以在金属箔片基底的外表面上形成纳米级的孔;

在该金属箔片基底的外表面上涂覆一种聚合物材料,以使该聚合物材料形成为相应于所述金属箔片基底的纳米级孔的复制阴模结构;

通过将所述复制阴模结构的外表面覆以外部成形材料来形成一外部结构;以及

从所述复制阴模结构和外部成形材料去除所述金属箔片基底。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述金属箔片是由铝材料制成的铝箔薄膜。

3.根据权利要求1所述的方法,其中在将所述金属箔片附着到预定形状的3D结构的表面上的过程中,所述金属箔片被连续地挤压以不使空气引入到界面空间中。

4.根据权利要求1所述的方法,其中所述预定形状的3D结构在电解质溶液中被电解抛光,以使所述预定形状的3D结构的表面变得平整。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,在进行阳极氧化处理时,所述金属箔片基底被浸入到一个填充有电解质溶液的阳极氧化装置中,然后向所述金属箔片基底施加电极,以形成具有纳米级孔的阳极氧化层。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,在涂覆所述聚合物材料时,所述聚合物材料可被注入到所述金属箔片基底的纳米级孔内,使得所述复制阴模结构包括相应于所述纳米级孔的多个柱状物。

7.根据权利要求4所述的方法,其中所述聚合物溶液选自如下材料中的一种:PTFE(聚四氟乙烯)、FEP(氟化乙烯丙烯)共聚物以及PFA(全氟烷氧基)。

8.根据权利要求1所述的方法,其中所述金属箔片基底通过化学蚀刻被去除。

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