[发明专利]辐射敏感性树脂组合物

权利要求书

1.一种辐射敏感性树脂组合物，所述组合物含有：(A)具有如下给出的式(I)所表示的重复单元的酚醛清漆树脂；(B)选自由苯并嗪化合物、碳二亚胺化合物、三嗪硫醇化合物和双马来酰亚胺化合物组成的组中的至少一种热反应性化合物；(C)辐射敏感性化合物；和(D)溶剂：

式(I)中，R1～R3各自独立地表示氢原子、羟基、具有1～2个碳原子的烷氧基或具有1～10个碳原子的烷基，R4～R5各自独立地表示氢原子、具有1～5个碳原子的烷基或具有卤素原子、羟基或含1～5个碳原子的烷基作为取代基的苯基，

其中，在树脂中所有以式(I)表示的重复单元中，多个R1、多个R2、多个R3、多个R4和多个R5可各自相同或不同，条件是在所有所述重复单元中，至少部分R4和R5是甲基、苯基或羟基苯基。

2.如权利要求1所述的辐射敏感性树脂组合物，其中，所述酚醛清漆树脂(A)中R4和/或R5为甲基、苯基或羟基苯基的重复单元的比例为20％～100％。

3.如权利要求1或2所述的辐射敏感性树脂组合物，其中，在所述酚醛清漆树脂(A)的所有重复单元中，至少部分R4和R5为苯基。

4.如权利要求1～3中任一项所述的辐射敏感性树脂组合物，其中，所述热反应性化合物(B)为三嗪硫醇化合物或双马来酰亚胺化合物。

5.如权利要求1～4中任一项所述的辐射敏感性树脂组合物，其中，所述组合物用于正型辐射光刻。

6.如权利要求1～5中任一项所述的辐射敏感性树脂组合物，其中，所述辐射敏感性化合物(C)为萘醌二叠氮化物磺酸酯。

7.如权利要求5或6所述的辐射敏感性树脂组合物，其中，所述组合物用于形成有机电致发光元件的绝缘膜。

8.如权利要求1～4中任一项所述的辐射敏感性树脂组合物，其中，所述组合物用于负型辐射光刻。

9.如权利要求1～8中任一项所述的辐射敏感性树脂组合物，所述组合物还含有(E)表面活性剂和/或(F)着色剂。

10.一种辐射光刻结构体，所述辐射光刻结构体中使用了如权利要求1～9中任一项所述的辐射敏感性树脂组合物。

11.一种有机电致发光元件，所述有机电致发光元件含有使用了如权利要求1～9中任一项所述的辐射敏感性树脂组合物的辐射光刻结构体。