[发明专利]具有改进的耐磨损性的负性工作可成像元件

权利要求书

1.一种负性工作可成像元件，包括其上具有可成像层的基材，该可成像层包含：

可自由基聚合组分，

在暴露于成像辐射中时提供自由基的引发剂组合物，

辐射吸收性化合物，

聚合物粘结剂，和

表面改性的二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约1-大约40重量％的量存在，具有大约1-大约500nm的平均粒度，具有表面羟基，并具有大约0.5-大约15重量％的源自含1-30个碳原子的表面疏水性基团的碳含量。

2.权利要求1的元件，其中所述表面改性的二氧化硅颗粒具有大约50-大约400m²/g的BET表面。

3.权利要求1的元件，其中所述表面疏水性基团包括含1-30个碳原子的表面烷基或芳族环中含6或10个碳原子的表面芳基。

4.权利要求1的元件，其中所述表面改性的二氧化硅颗粒是热解法二氧化硅颗粒，它们是无定形的并且是通过在有机溶剂和稳定性表面活性剂存在下研磨制备的。

5.权利要求1的元件，其中所述表面改性的二氧化硅颗粒按大约5-大约20重量％的量存在于所述可成像层中。

6.权利要求1的元件，其中所述表面改性的二氧化硅颗粒具有大约100-大约300m²/g的BET表面积，大约0.5-大约10重量％的碳含量和大约2-大约80nm的平均粒度。

7.权利要求1的元件，其中所述表面疏水性基团基本上由含1-18个碳原子的表面烷基，或苯基构成。

8.权利要求1的元件，还包括布置在所述可成像层上的面涂层。

9.权利要求1的元件，其中所述辐射吸收性化合物是按基于它布置于其中的层的总干重计大约0.5-大约30％的量存在的红外辐射吸收性化合物。

10.权利要求1的元件，其中所述辐射吸收性化合物是按基于它布置于其中的层的总干重计大约0.5-大约30％的量存在的UV敏感性敏化剂。

11.权利要求1的元件，它是平版印刷板前体并且所述基材是亲水性含铝基材。

12.权利要求1的元件，它是作为多个平版印刷板前体之一安排在堆叠体中的平版印刷板前体，所述多个平版印刷板前体在每个独立平版印刷板前体之间具有隔离纸。

13.一种负性工作、红外辐射敏感性平版印刷板前体，其包括含铝基材，该含铝基材在其上具有可成像层和任选的布置在所述可成像层上的面涂层，所述可成像层包含：

可自由基聚合组分，

在暴露到成像红外辐射中时提供自由基的引发剂组合物，

辐射吸收性化合物，

聚合物粘结剂，和

表面改性的二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约5-大约20重量％的量存在，具有大约2-大约80nm的平均粒度，具有表面羟基，大约100-大约250m²/g的BET表面积，并具有大约0.5-大约5重量％的源自表面疏水性基团的碳含量，所述表面疏水性基团基本上由含1-10个碳原子的烷基或苯基构成。

14.一种提供图像的方法，包括：

A)将权利要求1的负性工作可成像元件成像，以提供具有曝光区域和未曝光区域的成像元件，和

B)将所述成像元件显影以仅主要除去所述非曝光区域。

15.权利要求14的方法，其中所述可成像元件是红外辐射敏感性的，并且使用处于大约700-大约1400nm的波长的红外激光进行成像。

16.权利要求14的方法，其中所述可成像元件是UV辐射敏感性的，并且使用处于大约250-大约450nm的波长的红外激光进行成像。

17.权利要求14的方法，其中使用具有大约6-大约13的pH值的显影剂进行所述显影。

18.权利要求14的方法，其中所述可成像元件还包括布置在所述可成像层上的面涂层。

19.一种通过权利要求14的方法制备并具有亲水性含铝基材的平版印刷板。