[发明专利]电力合成器以及微波导入机构有效
申请号: | 200980109245.5 | 申请日: | 2009-03-09 |
公开(公告)号: | CN101978794A | 公开(公告)日: | 2011-02-16 |
发明(设计)人: | 池田太郎;河西繁 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;H01L21/3065;H01P5/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李伟;舒艳君 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电力 合成器 以及 微波 导入 机构 | ||
1.一种电力合成器,其具有:
形成筒状的本体容器;
多个电力导入端,其被设置在所述本体容器的侧面,用于将电力作为电磁波导入;
多个供电天线,其被分别设置在所述多个电力导入端,用于将供给的电磁波放射到所述本体容器内;
合成部,其对从所述多个供电天线放射到所述本体容器内的电磁波进行空间合成;及
输出端,其输出在所述合成部中合成的电磁波;
所述供电天线:具有天线本体和反射部,所述天线本体具有从所述电力导入端供给电磁波的第一极、及放射所供给的电磁波的第二极,所述反射部被设置成从所述天线本体向侧方突出,以反射电磁波,由入射到所述天线本体中的电磁波和在所述反射部被反射的电磁波形成驻波,
从所述各供电天线放射的作为驻波的电磁波在所述合成部中进行合成。
2.根据权利要求1所述的电力合成器,其特征在于,
还具有内导体,该内导体在所述本体容器内被设置成与本体容器同轴状,并形成为筒状或柱状,
所述天线本体的第二极与所述内导体接触。
3.根据权利要求1所述的电力合成器,其特征在于,
所述反射部被设置成向所述天线本体的两侧突出。
4.根据权利要求1所述的电力合成器,其特征在于,
所述反射部被设置在与所述天线本体第一极相距1/4波长的位置、或以该位置为基准的-10%~+100%的范围内的位置。
5.根据权利要求1所述的电力合成器,其特征在于,
所述反射部的长度为1/2波长、或以该长度为基准的-10%~+50%范围内的长度。
6.根据权利要求1所述的电力合成器,其特征在于,
所述反射部呈圆弧状。
7.根据权利要求1所述的电力合成器,其特征在于,
所述供电天线形成在印刷基板上,并构成微带线。
8.根据权利要求1所述的电力合成器,其特征在于,
其还具有电介质部件,该电介质部件按照夹持所述供电天线的方式设置。
9.根据权利要求8所述的电力合成器,其特征在于,
所述电介质部件的厚度为1/2波长的有效长度或以该长度为基准的-20%~+20%范围内的有效长度。
10.一种微波导入机构,应用在用于在处理室内形成微波等离子体的微波等离子体源中,其具有:
形成筒状的本体容器;
多个微波电力导入端,其被设置在所述本体容器的侧面,用于将微波电力作为电磁波即微波导入;
多个供电天线,其被分别设置在所述多个微波电力导入端,用于将供给的微波放射到所述本体容器内;
合成部,其对从所述多个供电天线放射到所述本体容器内的微波进行空间合成;及
天线部,其具有将在所述合成部合成后的微波放射到所述处理室内的微波放射天线,
所述供电天线具有天线本体和反射部,所述天线本体具有从所述微波电力导入端供给微波的第一极、及放射微波的第二极,所述反射部被设置成向所述天线本体的侧方突出,以反射微波,
由入射到所述天线本体的微波和在所述反射部被反射的微波形成驻波,从所述各供电天线放射的作为驻波的微波在所述合成部中进行合成。
11.根据权利要求10所述的微波导入机构,其特征在于,
其还具有内导体,该内导体在所述本体容器内被设置成与本体容器同轴状,并形成筒状或柱状,
所述天线本体的第二极与所述内导体接触。
12.根据权利要求10所述的微波导入机构,其特征在于,
所述反射部被设置成向所述天线本体的两侧突出。
13.根据权利要求10所述的微波导入机构,其特征在于,
所述反射部被设置在与所述天线本体的第一极相距1/4波长的位置或以该位置为基准的-10%~+100%的范围内的位置。
14.根据权利要求10所述的微波导入机构,其特征在于,
所述反射部的长度为1/2波长或以该长度为基准的-10%~+50%范围内的长度。
15.根据权利要求10所述的微波导入机构,其特征在于,
所述反射部呈圆弧状。
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