[发明专利]具有测量装置的用于微光刻的投射曝光系统

权利要求书

1.一种用于微光刻的投射曝光系统，包括：

-用于支撑掩模的掩模支撑装置，在该掩模上布置有掩模结构，

-用于支撑基底的基底支撑装置，

-投射光学部件，用于在曝光过程期间将所述掩模结构成像到所述基底上，

-测量结构，该测量结构位于相对于所述投射曝光系统的基准元件的确定的位置中，该确定的位置从所述掩模支撑装置的位置机械解耦，

-探测器，布置用于记录通过借助所述投射光学部件对测量结构进行成像而产生的测量结构的像，所述投射曝光系统被配置从而在所述投射曝光系统的操作期间，借助所述投射光学部件同时分别进行将所述掩模结构成像到所述基底上以及所述测量结构的成像，以及

-估算装置，其配置为在所述曝光过程期间在所述探测器区域中获得所述测量结构的像的横向位置。

2.如权利要求1所述的投射曝光系统，

其中，所述探测器布置在相对于与探测器相关的基准元件的确定的位置。

3.如权利要求2所述的投射曝光系统，

其中，所述第一基准元件，现称作与测量结构相关的基准元件，以及所述与探测器相关的基准元件被固定到公共的基准结构。

4.如权利要求2所述的投射曝光系统，

其中，所述第一基准元件，现称作与测量结构相关的基准元件，以及所述与探测器相关的基准元件相同。

5.如前述权利要求中任一所述的投射曝光系统，其中，所述掩模支撑装置相对于所述投射曝光系统的与所述测量结构相关的基准元件可移动地安装。

6.如权利要求2至5中任一所述的投射曝光系统，其中，所述基底支撑装置相对于所述与探测器相关的基准元件可移动地安装。

7.如前述权利要求中任一所述的投射曝光系统，其中，所述测量结构和/或所述探测器刚性固定到相关的基准元件。

8.如权利要求1至6中任一所述的投射曝光系统，还包括距离传感器，该距离传感器配置为通过测量所述测量结构和/或所述探测器相距所述相关的基准元件的距离来获得所述测量结构和/或所述探测器的各自的确定的位置。

9.如前述权利要求中任一所述的投射曝光系统，其中，所述测量结构和/或所述探测器以各自固定位置附连到所述投射光学部件，以及距离传感器被布置以测量所述投射光学部件和至少一个基准元件之间的距离。

10.如权利要求8所述的投射曝光系统，

其中，所述测量结构和/或所述探测器以各自固定位置附连到所述投射光学部件，以及所述距离传感器包括两个传感器模块，第一模块被布置以便测量所述测量结构和与所述测量结构相关的基准元件之间的距离，和第二模块被布置以便测量所述探测器和所述与探测器相关的基准元件之间的距离。

11.如权利要求3至10中任一所述的投射曝光系统，还包括台传感器，该台传感器配置为在所述曝光过程期间监测所述掩模支撑装置和与所述测量结构相关的基准元件之间的距离，以及监测所述基底支撑装置和所述与探测器相关的基准元件之间的距离，其中，所述估算装置配置为估算所述测量结构的像的获得的横向位置和由所述台传感器获得的距离，并由此获得所述曝光过程期间所述基底上各个掩模结构的成像位置从其目标位置的偏离。

12.如权利要求1或2所述的投射曝光系统，其中，所述基准元件是所述投射光学部件，所述测量结构以固定位置附连到所述投射光学部件，且所述投射曝光系统还包括传感器模块，该传感器模块配置为在所述曝光过程期间测量所述测量结构和所述掩模支撑装置之间的距离。

13.如权利要求1、2或12所述的投射曝光系统，其中，所述基准元件是所述投射光学部件，所述探测器以固定位置附连到所述投射光学部件，和所述投射曝光系统包括第二传感器模块，该第二传感器模块配置为在所述曝光过程期间测量所述探测器和所述基底支撑装置之间的距离。

14.如前述权利要求中任一所述的投射曝光系统，其中，所述估算装置配置为在所述曝光过程期间在所述探测器区域中实时获得所述测量结构的像的横向位置。

15.如前述权利要求14所述的投射曝光系统，其中，所述投射曝光系统还包括控制装置，该控制装置配置为实时操纵所述投射曝光系统的操作，从而校正所述投射曝光系统的横向成像不稳定性。