[发明专利]真空处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及真空处理装置，具体涉及对用于LCD控制板的玻璃等基板进行所相关的蚀刻、蒸发等真空处理的真空处理装置。

背景技术

真空处理装置是在形成有处理空间的真空腔内设置电极，且通过在真空状态下向电极输入电源来形成等离子体，从而对设置有电极的基板支持部上所设置的基板表面进行蒸发(Vacuum Evaporation)、蚀刻等真空处理工程的装置。

现有的真空处理装置由上侧开口的腔体本体以及腔体本体上侧可装卸地连接的上部盖子组成。为了维护以及维修真空处理腔，上部盖子构成为在与腔体本体分离后可向腔体本体的一侧移动及回转。

另一方面由于LCD的大型化趋势，用于LCD(Liquid CrystalDisplay)控制板的玻璃基板的尺寸也随之增大，因此对上述用于LCD控制板的玻璃基板进行处理的真空处理装置的尺寸也随之变大。

上述真空处理装置大型化的同时，处理空间的体积(真空体积)，也进而增加，而由体积增加的处理空间内的真空压所引起的腔体外部施加的荷重也随之增加，不仅使腔体本体，还使上部盖子发生变形。

此时，上部盖子所发生的变形会向着设置于上部盖子底面的喷头进行传达，进而现有的真空处理装置中，存在由于上部盖子发生变形而导致喷头或者喷头上设置的绝缘构件的破损、设置误差等情况发生的问题。

并且在上述腔体外部施加的荷重增加的同时，腔体为了支撑所增加的荷重而增大其自身的厚度，进而导致整体腔体的自重都会增加，从而导致上部盖子也将增大其厚度以及自重。

现有的真空处理装置为了对喷头等设置于上部盖子底面上的内部设备进行修理或替换，而需要要求上部盖子从腔体本体方向开始分离，而现有技术中所采用的方案是先提升上部盖子进行旋转，然后再将其从腔体本体分离开。

可是现有真空处理装置在上部盖子的自重增加时，相应的存在需要具有能够支撑上部盖子自重的功率的回转装置(回转电机、减速机等)的问题。

尤其与半导体不同，作为真空处理对象的基板为第八代的四角LCD腔体玻璃基板的情况下，存在一边长度大约超过2m的基板的尺寸会显著增大，相对地导致上部盖子的自重急剧增加，使上部盖子的回转几乎不可能的问题。

发明内容

(一)要解决的技术问题

为了解决上述问题，本发明的目的在于提供具备将上部盖子以及喷头分开设置结构的真空处理装置。

本发明的另一目的在于提供在对真空处理装置处设置的重物，比如喷头，进行维护修补时，对重物可容易进行替换的真空处理装置。

本发明的另一目的在于提供上部盖子即使因为真空压产生变形，也能防止对设置于上部盖子附近的部件造成影响的真空处理装置。

(二)技术方案

为了达到如上所述的本发明的目的，本发明所提供的真空处理装置包括：

相互连接形成对基板进行真空处理的处理空间的腔体本体以及上部盖子；

设置于所述上部盖子下侧，向处理空间进行气体供给的喷头部；

对所述喷头部的边缘部位进行支持而设置于所述腔体本体以及所述上部盖子之间的辅助盖子。

优选地，本发明所涉及的真空处理装置的形状构成为其一边尺寸超过1,300mm的矩形。

所述辅助盖子与所述喷头部的整体或者一部分可形成为一体。

所述喷头部可设置与所述上部盖子的底面之间有间隔。

所述上部盖子设置为与所述辅助盖子可拆卸。

所述辅助盖子设置为与所述腔体本体可拆卸。

所述上部盖子以及辅助盖子对于所述腔体本体设置为可同时拆卸。

所述喷头部设置为与所述辅助盖子可拆卸。

当上部盖子从所述辅助盖子处拆卸后，所述喷头部设置为可以向所述辅助盖子的上方分离出来。

所述上部盖子、喷头部以及辅助盖子中至少有一个为了与外部装卸装置相连接而形成有装卸部件结合部。

所述喷头部的上侧追加设置有用于进行冷却操作的冷却面板，所述冷却面板为了与外部装卸装置相连接可形成有装卸部件结合部。

所述喷头部可构成为为了向处理空间喷射气体，可以追加包括有多个喷射孔的喷射面板。

所述喷头部构成为为了形成用于气体的扩散的一个以上的扩散空间，可以追加包括与所述喷射面板的上表面具备间隔，且与所述喷射面板结合的一个以上的扩散面板；

此时，所述喷射面板以及所述至少一个的扩散面板可形成为一体或者可拆卸地连接；为了与外部装载装置相连接，所述喷射面板以及所述至少一个的扩散面板上形成有装载部件结合部，或者所述喷射面板以及所述至少一个的扩散面板的整体上形成有装载部件结合部。