[发明专利]亲水性片材及基材表面的超亲水化方法无效
申请号: | 200980109842.8 | 申请日: | 2009-02-16 |
公开(公告)号: | CN102026802A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 寺田好夫 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | B32B3/14 | 分类号: | B32B3/14;B08B17/02;C09K3/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 亲水性 基材 表面 水化 方法 | ||
1.一种亲水性片材,其特征在于:
在支持体的表面具备从该表面的仰角低于90度突出的倾斜柱状结构体的集合层,该集合层的表面的水接触角为10度以下。
2.如权利要求1所述的亲水性片材,其特征在于:
在所述支持体的单面具备以从该表面的仰角低于90度的方式突出的倾斜柱状结构体的集合层,该集合层的表面的水接触角为10度以下,在所述支持体的另一单面上形成有粘合剂层。
3.如权利要求1或2所述的亲水性片材,其特征在于:
所述集合层为防污层。
4.如权利要求1或2所述的亲水性片材,其特征在于:
所述集合层为防雾层。
5.一种基材表面的超亲水化方法,使基材的表面超亲水化,其特征在于:
利用斜向蒸镀法在该基材的表面上形成以从该表面的仰角低于90度的方式突出的倾斜柱状结构体的集合层。
6.如权利要求5所述的基材表面的超亲水化方法,其特征在于:
所述斜向蒸镀法使用真空蒸镀装置。
7.如权利要求6所述的基材表面的超亲水化方法,其特征在于:
所述真空蒸镀装置内的极限真空度为1×10-3torr以下。
8.如权利要求6或7所述的基材表面的超亲水化方法,其特征在于:
所述真空蒸镀装置内的蒸镀材料的蒸镀利用电子束的加热、气化而进行。
9.如权利要求5至8中任一项所述的基材表面的超亲水化方法,其特征在于:
所述斜向蒸镀法使蒸镀材料蒸镀于由辊送出的所述基材上而进行。
10.如权利要求5至9中任一项所述的基材表面的超亲水化方法,其特征在于:
所述斜向蒸镀法通过在蒸镀源与所述基材之间设置局部遮蔽板而使蒸镀材料斜向蒸镀于该基材上。
11.如权利要求5至10中任一项所述的基材表面的超亲水化方法,其特征在于:
所述集合层的厚度为10nm以上。
12.如权利要求5至11中任一项所述的基材表面的超亲水化方法,其特征在于:
所述基材的表面的每单位面积的所述倾斜柱状结构体的根数为1×108根/cm2以上。
13.如权利要求5至12中任一项所述的基材表面的超亲水化方法,其特征在于:
所述集合层的表面的水接触角为10度以下。
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