[发明专利]用于将膜沉积至衬底上的方法无效

专利信息
申请号: 200980109917.2 申请日: 2009-03-02
公开(公告)号: CN101983254A 公开(公告)日: 2011-03-02
发明(设计)人: 乌韦·布伦德尔;赫伯特·迪特里奇;赫尔曼-约瑟夫·席姆佩尔;安德烈亚斯·施塔德勒;丹·托帕;安格利卡·巴希 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/34
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 周文强;李献忠
地址: 奥地利*** 国省代码: 奥地利;AT
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摘要:
搜索关键词: 用于 沉积 衬底 方法
【权利要求书】:

1.使用溅镀沉积工艺将膜沉积至衬底上的方法,

其中该溅镀沉积工艺包含直流电溅镀沉积;

其中该膜由至少90wt%的具有半导体性质的无机材料M2组成;

由此该无机材料M2的膜以结晶结构直接沉积,使得至少50wt%的沉积膜具有结晶结构;

其中用于该溅镀沉积的来源材料(标靶)是由至少80wt%的无机材料M2组成;

其中该无机材料M2是选自于包含含有硫、硒和/或碲的二、三或四盐的组。

2.根据权利要求1所述的方法,其中该无机材料M2选自于由SnS、Sb2S3、Bi2S3、CdSe、In2S3、In2Se3、SnS、SnSe、PbS、PbSe、MoSe2、GeTe、Bi2Te3或Sb2Te3;Cu、Sb与S(或Se、Te)的化合物(如CuSbS2、Cu2SnS3、CuSbSe2、Cu2SnSe3);Pb、Sb与S(或Se或Te)的化合物(PbSnS3、PbSnSe3)或其组合所组成的组。

3.根据权利要求2所述的方法,其中该无机材料M2为SnS、Sb2S3、Bi2S3、SnSe、Sb2Se3、Bi2Se3、Sb2Te3或其组合。

4.根据权利要求3所述的方法,其中该无机材料M2选自于由SnS、Bi2S3或其组合所组成的组。

5.根据权利要求4所述的方法,其中该无机材料M2为SnS,且该结晶结构为斜方晶。

6.根据权利要求1所述的方法,其中在该沉积时间的至少90%期间,该衬底温度T1维持低于200℃。

7.根据权利要求6所述的方法,其中温度T1是维持低于100℃。

8.根据权利要求6所述的方法,其中温度T1是维持低于60℃。

9.根据权利要求1所述的方法,其中该工艺的参数(t,T,p,P,U,…)设定为使得该无机材料M2的膜以至少60nm/分钟(1nm/s)的沉积速率沉积。

10.根据权利要求1所述的方法,其中在该膜沉积前,已经沉积另一层无机材料M1。

11.根据权利要求10所述的方法,其中该无机材料M1选自于由金属或导电性氧化物组成的组。

12.根据权利要求10所述的方法,其中该无机材料M1已经以溅镀沉积工艺沉积。

13.根据权利要求1所述的方法,其中该衬底是选自于由陶瓷、玻璃、聚合物、塑料组成的组。

14.由根据权利要求1至13任一项的方法制造的产品。

15.太阳能电池,其包含由根据权利要求1至13任一项的方法制造的产品。

16.太阳能电池,其包含吸收层,其中该吸收层根据权利要求1至13任一项的方法沉积。

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