[发明专利]扫描成像装置

权利要求书

1.一种扫描成像装置，包括：

照射单元，所述照射单元用于至少将用于聚焦的斑点光照射到用于检测的目标基板上；

光学系统，所述光学系统具有传感器阵列，所述传感器阵列用于接收来自用于检测的目标基板中的检测目标的光和从用于检测的目标基板反射的斑点光；和

扫描单元，所述扫描单元用于驱动所述光学系统，以至少沿主扫描方向扫描用于检测的目标基板，

其中，所述斑点光被照射到用于检测的目标基板中的与检测目标不同的位置上，以及，

其中，从用于检测的目标基板反射的斑点光被接收以读出从中获取聚焦信号和检测信号的信号。

2.根据权利要求1的装置，

其中，所述照射单元适于将激发斑点光和两个聚焦斑点光照射到用于检测的目标基板上的相互不同的相应的位置。

3.根据权利要求1或2的装置，

其中，所述照射单元适于将准直的斑点光照射到用于检测的目标基板，并且所述装置通过检测被所述传感器阵列接收的从用于检测的目标基板反射的准直斑点光来获取聚焦信号。

4.根据权利要求2的装置，

其中，所述扫描单元是反射镜，所述反射镜适于为了所述斑点光的与传感器阵列平行的主扫描和为了通过沿与主扫描垂直的方向的偏转而进行的焦点调整，在控制下沿两个方向偏转光。

5.根据权利要求2的装置，

其中，所述传感器阵列是通过在线上布置图像拾取元件以能够进行寻址读出而形成的线传感器，以及，

其中，所述装置还包括控制单元，所述控制单元用于读出和存储来自与斑点对应的位置处的图像拾取元件的输出。

6.一种扫描成像装置，包括：

斑点光投影系统，所述斑点光投影系统用于将来自用于发射第一波长的光束的光源的光束和用于发射第二波长的光束的光源的光束引向成像目标、以及在将被扫描单元扫描的成像目标上的不同的位置处形成至少两个斑点光；

成像光学系统，所述成像光学系统用于通过适于阻挡第一波长的光束并透过第二波长的光束的荧光过滤器在与扫描方向平行地布置的传感器阵列上形成所述斑点光的相应的图像；和

运算单元，所述运算单元用于基于通过第二波长的光束形成的图像的强度，通过计算确定流路中的液体的温度。

7.一种扫描成像装置，包括：

斑点光投影系统，所述斑点光投影系统用于照射用于激发的第一斑点光和用于聚焦的两个第二斑点光，所述用于激发的第一斑点光将被照射到检测目标上，所述检测目标被布置于在基板中形成的流路中，所述用于聚焦的两个第二斑点光将分别在基板上的不同位置处被照射到流路上，以及所述斑点光投影系统用于至少沿流路扫描第一斑点光和第二斑点光；

成像系统，所述成像系统用于使从被第一斑点光激发的检测目标发射的光、作为流路的顶面处的反射的结果由第二斑点光中的一个产生的第一反射光、以及作为流路的底面处的反射的结果由第二斑点光中的另一个产生的第二反射光成像；和

焦点位置调整系统，所述焦点位置调整系统用于沿流路的深度方向调整第一斑点光和第二斑点光的焦点位置，

其中，所述焦点位置调整系统适于根据第一斑点光和第二斑点光的焦点位置沿流路的深度方向的偏离方向和偏离量操作，所述偏离方向和偏离量是通过比较第一反射光的强度和第二反射光的强度确定的。

8.根据权利要求7的装置，

其中，所述斑点光投影系统具有扫描单元，所述扫描单元用于沿两个方向偏转第一斑点光和第二斑点光，所述两个方向包括走向沿流路的第一方向和在与流路的顶面和底面平行的面上与第一方向正交的第二方向，以及，

其中，通过借助于所述扫描单元沿第二方向偏转第一斑点光和第二斑点光，调整焦点位置。

9.根据权利要求7的装置，

其中，所述焦点位置调整系统由驱动机构构成，所述驱动机构用于沿流路的深度方向至少驱动斑点光投影系统和成像系统之中的斑点光投影系统。

10.根据权利要求7～9中的任一项的装置，

其中，所述成像系统具有线传感器，所述线传感器具有沿与流路的走向平行的方向布置的多个像素。