[发明专利]可用于无水印刷的可成像元件无效

专利信息
申请号: 200980111917.6 申请日: 2009-04-01
公开(公告)号: CN101983359A 公开(公告)日: 2011-03-02
发明(设计)人: O·梅拉梅德;J·黄;E·康斯坦蒂尼;E·马茨纳 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G03F7/075 分类号: G03F7/075;B41N1/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 范赤;李连涛
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 无水 印刷 成像 元件
【权利要求书】:

1.一种非烧蚀可成像元件,包括基材,在基材上顺序具有:包括第一聚合物基料和红外辐射吸收化合物的第一层、包括第二聚合物基料和基本不含红外辐射吸收化合物的第二层,和设置在所述第二层之上的交联的硅橡胶层。

2.权利要求1的元件,其中所述第一聚合物基料的Tg比所述第二聚合物基料的Tg高至少10℃。

3.权利要求1的元件,其中所述第一层具有耐化学性,使得如通过在室温下将铝基材上的所述干燥的单独第一层浸泡在2-丁氧基乙醇∶水为80∶20重量的溶液中5分钟所说明的,干燥涂层重量的损失少于35%。

4.权利要求1的元件,其中所述第一聚合物基料至少部分衍生自(甲基)丙烯腈和N-取代环状酰亚胺,和任选另外衍生自(甲基)丙烯酰胺。

5.权利要求1的元件,其中所述红外辐射吸收化合物为以至少5wt%的量仅存在于所述第一层中的IR吸收染料。

6.权利要求1的元件,其中所述交联的硅橡胶层衍生自如下定义的组合物I或组合物II:

组合物I包括:

a)主要具有二甲基硅氧烷单元和由以下结构(PSR)表示的硅氧烷单元的聚硅氧烷材料:

-[Si(R1)(R2)-O]-

(PSR)

其中R1和R2独立地为烷基、芳基和烯基,只要至少一个为烯基,

b)具有SiH基团的硅烷交联剂,

c)铂催化剂,和

d)任选稳定剂或粘合促进剂或两者,

组合物II包括:

a)具有SiOH、SiOR3或SiOCOR4端基或其任意组合的聚二甲基硅氧烷,其中R3和R4独立地为取代或未取代的烷基、芳基或烯基,

b)具有SiOH、SiOR3或SiOCOR4基团的至少任意两种的硅氧烷交联剂,其中R3和R4如以上定义,和

c)任选催化剂或粘合促进剂或两者。

7.权利要求1的元件,其中所述第二聚合物基料选自一种或多种以下聚合物材料:

a)类:酚醛清漆树脂、甲阶酚醛树脂、支化或未支化的聚羟基苯乙烯、具有侧挂苯酚基团的聚乙烯醇缩醛或它们的任何结合物,

b)类:具有衍生自选自降冰片烯、四环十二碳烯及其混合物的组(a)的一种或多种单体的重复单元,和衍生自选自马来酸酐、马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-苯甲基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺及其混合物的组(b)的一种或多种单体的重复单元的聚合物,

c)类:衍生自马来酸酐和式CH2=CH(C6H4R1)的单体及其混合物的共聚物,其中R1为氢、卤素、羟基、氰基、磺酰胺、1至6个碳原子的烷基,1至6个碳原子的烷氧基,1至7个碳原子的酰基,1至7个碳原子的酰氧基,1至7个碳原子的羰基烷氧基,或其混合物,

d)类:衍生自甲基丙烯酸甲酯和含羧酸单体或含羧酸单体的混合物的共聚物,

e)类:具有连接到聚合物主链的-X-C(=T)-NR-S(=O)2-部分的聚合物,其中-X-为氧基或-NR′-基团,T为O或S,R和R′独立地为氢、卤素或具有1至6个碳原子的烷基,和

f)类:具有由以下结构(I-F)或(II-F)表示的重复单元的聚合物:

其中n为1至3,Rs和Rt独立地为氢或烷基或卤素,X为多价连接基团,Y为氧基或-NR-,其中R为氢或烷基或芳基,Z为一价有机基。

8.权利要求1的元件,其为具有含铝基材的平版印刷版前体。

9.权利要求1的元件,其中所述第一聚合物基料以至少60wt%的量存在于所述第一层中,所述第一层具有0.7至3g/m2的干燥覆盖率,所述第二聚合物基料以至少50wt%的量存在于所述第二层中,所述第二层具有0.3至2g/m2的干燥覆盖率,所述交联的硅橡胶层具有0.5至3.5μm的干燥厚度。

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