[发明专利]金属薄膜形成装置和使用该装置的金属薄膜形成方法

权利要求书

1.一种形成金属薄膜的装置，包括：

屏蔽罩；

至少一个微波产生单元，安置于所述屏蔽罩中，用以输出微波；以及

至少一个微波吸收板，与所述微波产生单元间隔开，用于以所述微波间接加热涂有含金属组合物的衬底，

其中，所述微波吸收板包括主体和涂布在所述主体上的透明传导膜。

2.根据权利要求1所述的形成金属薄膜的装置，其特征在于，所述主体是陶瓷衬底。

3.根据权利要求2所述的形成金属薄膜的装置，其特征在于，所述主体是透明陶瓷衬底，所述透明陶瓷衬底包括玻璃或石英。

4.根据权利要求2所述的形成金属薄膜的装置，其特征在于，所述主体是不透明陶瓷衬底，所述不透明陶瓷衬底包括氧化铝。

5.根据权利要求1所述的形成金属薄膜的装置，其特征在于，所述透明传导膜包括包含金属和氧的化合物或金属和氮的化合物的传导材料。

6.根据权利要求5所述的形成金属薄膜的装置，其特征在于，所述金属和氧的化合物是选自氧化铟锡、氧化锌和二氧化锡的任一者。

7.根据权利要求5所述的形成金属薄膜的装置，其特征在于，所述金属和氮的化合物是氮化钛或氮化钽。

8.根据权利要求1所述的形成金属薄膜的装置，还包括衬底支架，所述衬底支架用以支撑涂有所述含金属组合物的所述衬底。

9.根据权利要求1所述的形成金属薄膜的装置，其特征在于，所述微波吸收板是安置于所述衬底上方的部分、所述衬底下方的部分和所述衬底的侧部中的一或多处。

10.根据权利要求1所述的形成金属薄膜的装置，还包括供气单元，所述供气单元用以将气体供应到所述屏蔽罩内部。

11.一种形成金属薄膜的方法，包括：

用含金属组合物涂布衬底；

使所述衬底接近或密切接触微波吸收板，所述微波吸收板上具有透明传导膜；以及

通过微波间接加热来烧结所述含金属组合物从而形成金属薄膜或图案的热处理步骤。

12.根据权利要求11所述的形成金属薄膜的方法，其特征在于，所述透明传导膜包括包含金属和氧的化合物或金属和氮的化合物的传导材料。

13.根据权利要求12所述的形成金属薄膜的方法，其特征在于，所述金属和氧的化合物是选自氧化铟锡、氧化锌和二氧化锡的任一者。

14.根据权利要求12所述的形成金属薄膜的方法，其特征在于，所述金属和氮的化合物是氮化钛或氮化钽。

15.根据权利要求11所述的形成金属薄膜的方法，其特征在于，所述含金属组合物是含有1重量％到99重量％银络合物的银墨组合物，所述银络合物是通过银化合物与氨基甲酸铵或碳酸铵化合物反应得到。

16.根据权利要求11所述的形成金属薄膜的方法，其特征在于，所述热处理步骤包括：

将所述衬底安放于装设有微波产生单元和所述至少一个微波吸收板的装置中，所述微波产生单元用以产生微波；

将所述微波吸收板暴露于所述微波，以加热所述微波吸收板；以及

利用经加热的所述微波吸收板间接加热所述衬底上的所述含金属组合物。

17.根据权利要求16所述的形成金属薄膜的方法，其特征在于，所述微波产生单元产生10瓦到500瓦的所述微波。

18.根据权利要求11所述的形成金属薄膜的方法，其特征在于，所述热处理步骤进行3秒到1分钟。

19.根据权利要求11所述的形成金属薄膜的方法，其特征在于，所述热处理步骤是在氧气、氮气或其混合物的氛围下进行。

20.根据权利要求11所述的形成金属薄膜的方法，其特征在于，用所述含金属组合物涂布所述衬底是利用选自以下的任何方法进行：旋涂法、滚涂法、喷涂法、浸涂法、淋涂法和刮刀法。

21.根据权利要求11所述的形成金属薄膜的方法，其特征在于，用所述含金属组合物涂布所述衬底是利用选自以下的任何方法进行：滴涂法、喷墨印刷法、胶版印刷法、网版印刷法、移印法、凹板印刷法、柔性版印刷法和平版印刷法。