[发明专利]活塞环有效
申请号: | 200980112077.5 | 申请日: | 2009-03-18 |
公开(公告)号: | CN101983256A | 公开(公告)日: | 2011-03-02 |
发明(设计)人: | 斯特芬·霍佩;曼弗雷德·菲舍尔 | 申请(专利权)人: | 菲特尔莫古布尔沙伊德有限公司 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;C23C16/26;F16J9/26;C23C28/04 |
代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 黄威;孙丽梅 |
地址: | 德国布*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 活塞环 | ||
1.一种具有DLC涂层的活塞环,其特征在于,所述活塞环在基体材料上从内部到外部包括粘合层、含金属的无定形碳层和不含金属的无定形碳层,sp2键在所述含金属的碳层中占多数,而所述不含金属的碳层包括sp2键和sp3键并且sp3键的分量高于在所述含金属的碳层中的sp3键的分量,从而产生了DLC涂层的电阻,所述电阻在大于5000Ohm、尤其是大于5000kOhm的范围内。
2.根据权利要求1所述的活塞环,其特征在于,所述基体材料是钢或者铸铁。
3.根据权利要求1或2所述的活塞环,其特征在于,所述粘合层包含铬。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的活塞环,其特征在于,所述粘合层具有大约2μm的最大厚度。
5.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环,其特征在于,所述含金属的碳层包含钨。
6.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环,其特征在于,所述含金属的碳层具有朝外部减少的金属含量。
7.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环,其特征在于,所述含金属的碳层具有从大约1.5μm到大约17μm的厚度。
8.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环,其特征在于,所述含金属的碳层包含纳米晶碳化物相。
9.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环,其特征在于,所述不含金属的碳层具有从大约1μm到大约15μm的厚度。
10.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环,其特征在于,所述含金属和/或所述不含金属的碳层包含氢。
11.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环,其特征在于,所述层具有从≥大约2.9μm的,优选为≤30μm的总厚度。
12.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环,其特征在于,所述活塞环具有从1800到2800HV 0.002的表面硬度。
13.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环,其特征在于,所述粘合层是借助于金属气相沉积来涂覆的。
14.根据前述权利要求中任一项所述的活塞环,其特征在于,所述含金属的碳层和/或所述不含金属的碳层是借助于PACVD方法涂覆的。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的