[发明专利]电极集电体制造方法和制造设备以及具有所述集电体的电池无效

专利信息
申请号: 200980112129.9 申请日: 2009-03-19
公开(公告)号: CN102089908A 公开(公告)日: 2011-06-08
发明(设计)人: 内田陽三 申请(专利权)人: 丰田自动车株式会社
主分类号: H01M4/64 分类号: H01M4/64;H01M4/66;H01M10/052
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 杨晓光;郭晓华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电极 体制 方法 制造 设备 以及 有所 述集电体 电池
【权利要求书】:

1.一种制造用碳膜覆盖的电极集电体的方法,其特征在于包含:

在腔中布置导电性基材;

降低腔中的压力;

在腔中产生氟气和惰性气体的混合气氛,

在该气氛中对所布置基材的表面进行干法蚀刻;以及

在干法蚀刻后的基材的表面上形成碳膜。

2.根据权利要求1的制造方法,其中,碳膜实质上用碳来制造。

3.根据权利要求1或2的制造方法,其中,在同一腔中进行对基材表面的干法蚀刻以及形成碳膜。

4.根据权利要求3的制造方法,其中,腔中氟气和惰性气体的混合比被调节为:使得通过形成碳膜而获得的碳膜中的氟浓度不大于15at%。

5.根据权利要求1至4中任意一项的制造方法,其中,氟气在腔中的混合气氛中的比率被调节为位于包含端值的1mol%和15mol%之间的范围内。

6.根据权利要求4的制造方法,其中,腔中氟气与惰性气体的混合比被调节为:使得通过形成碳膜而获得的碳膜中的氟浓度不大于10at%。

7.根据权利要求5的制造方法,其中,氟气在腔中的混合气氛中的比率被调节为不小于2mol%。

8.根据权利要求1至7中任意一项的制造方法,其中,氟气为选自CF4、SF6、CHF3的一种或多于一种的气体。

9.根据权利要求1至8中任意一项的制造方法,其中,形成碳膜通过经由物理气相沉积或化学气相沉积在基材上沉积碳来进行。

10.根据权利要求1至9中任意一项的制造方法,其中,

导电性基材为用铝或铝合金制造的长的箔状导电片;且

对表面进行干法蚀刻以及形成碳膜在长导电片的长度方向上相继进行。

11.一种用于制造覆盖有碳膜的电极集电体的设备,其特征在于包含:

腔,腔的内部可减小压力,腔中设置有蚀刻部分和碳膜形成部分,蚀刻部分对导电性基材的表面进行干法蚀刻,碳膜形成部分在蚀刻后的基材表面上形成碳膜;

基材保持机构,其被布置在腔中并对基材进行保持;以及

气体引入机构,其将氟气和惰性气体引入腔,并被结构化为在腔中产生氟气与惰性气体以预定摩尔比混合的混合气氛。

12.根据权利要求11的制造设备,其中,碳膜实质上用碳制造。

13.根据权利要求11或12的制造设备,其中,氟气和惰性气体的混合比被调节为:使得由碳膜形成部分形成的碳膜的氟含量不大于15at%。

14.根据权利要求11至13中任意一项的制造设备,其中,氟气在腔中的混合气氛中的比率被调节为位于包含端值的1mol%和15mol%之间的范围内。

15.根据权利要求13的制造设备,其中,氟气和惰性气体的混合比被调节为:使得由碳膜形成部分形成的碳膜中的氟含量不大于10at%。

16.根据权利要求14的制造设备,其中,氟气在腔中的混合气氛中的比率被调节为不小于2mol%。

17.根据权利要求11至16中任意一项的制造设备,其中,氟气为选自CF4、SF6、CHF3的一种或多于一种的气体。

18.根据权利要求11至17中任意一项的制造设备,其中,基材保持机构被结构化为:将基材相继地传送到蚀刻部分之后的碳膜形成部分。

19.根据权利要求11至18中任意一项的制造设备,其中,碳膜形成部分被结构化为经由物理气相沉积或化学气相沉积在基材上沉积碳。

20.一种电极集电体,其特征在于通过使用根据权利要求1至10中任意一项的制造方法来制造。

21.一种电极集电体,其特征在于由根据权利要求11至19中任意一项的制造设备来制造。

22.一种电池,其特征在于包含根据权利要求20或21的电极集电体,其中,电极集电体包含阳极或阴极中的至少一种。

23.一种车辆,其特征在于包含根据权利要求22的电池,其中,电池为车辆的电源。

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