[发明专利]基于二苊并吡嗪并喹喔啉衍生物的溶致液晶体系及制法无效
申请号: | 200980112284.0 | 申请日: | 2009-03-30 |
公开(公告)号: | CN101990540A | 公开(公告)日: | 2011-03-23 |
发明(设计)人: | 郑世俊;姜忠成;乔舒亚·蒂莱玛;罗伯特·拉米莱兹 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C07D487/02 | 分类号: | C07D487/02;C09K19/34 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;阴亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 喹喔啉 衍生物 液晶 体系 制法 | ||
1.具有以下结构通式(I)或(II)之一的化合物:
其中R1、R2、R3、R4、R5和R6均独立地选自-H、-SO3M、-OH、-NH2、-Cl、-Br、-I、-NO2、-F、-CF3、-CN、-COOH、-CONH2、烷基、芳基、炔基、烯基、烷氧基、烷基氨基、苯氧基和苯基氨基;M是一种或多种相反离子;j是与所述化合物缔合的相反离子的数量;并且n是1至5的整数。
2.如权利要求1所述的化合物,其中R1、R2、R3、R4、R5和R6是-H,并且n是1至4的整数。
3.如权利要求1至2中任一权利要求所述的化合物,其中M选自下列阳离子:H+、NH4+、K+、Li+、Na+、Cs+、Ca++、Sr++、Mg++、Ba++、Co++、Mn++、Zn++、Cu++、Pb++、Fe++、Ni++、Al3+、Ce3+、La3+及其组合。
4.如权利要求1至3中任一权利要求所述的化合物,其中一个或多个相反离子由至少两个分子共用。
5.如权利要求1至4中任一权利要求所述的化合物,其中所述化合物能够形成稳定的溶致液晶体系。
6.如权利要求1至5中任一权利要求所述的化合物,其中所述化合物能够形成光学各向同性或各向异性的膜。
7.如权利要求1至5中任一权利要求所述的化合物,其中所述化合物能够形成至少部分结晶膜。
8.溶致液晶体系,其包含权利要求1至7中任一权利要求所述的至少一种化合物。
9.如权利要求8所述的溶致液晶体系,其中所述溶致液晶体系基于水。
10.如权利要求8至9中任一权利要求所述的溶致液晶体系,其中所述溶致液晶体系包含水和可与水混溶的有机溶剂的混合物。
11.如权利要求8至10中任一权利要求所述的溶致液晶体系,其中所述溶致液晶体系中的所述至少一种化合物的浓度为所述溶致液晶体系的约5%至约50%重量比。
12.如权利要求8至11中任一权利要求所述的溶致液晶体系,其进一步包含一种或多种表面活性剂,其量高达所述溶致液晶体系的约5%重量比。
13.如权利要求8至12中任一权利要求所述的溶致液晶体系,其进一步包含一种或多种增塑剂,其量高达所述溶致液晶体系的约5%重量比。
14.如权利要求8所述的溶致液晶体系,其进一步包含:
选自通式(I)的第一化合物,其中所述第一化合物的浓度为所述溶致液晶体系的约5%至约50%重量比;以及
选自通式(II)的第二化合物,其中所述第二化合物的浓度为所述溶致液晶体系的约5%至约50%重量比。
15.如权利要求8至14中任一权利要求所述的溶致液晶体系,其进一步包含至少一种水溶性有机染料,其中所述至少一种有机染料能够参与所述溶致液晶体系的形成。
16.光学各向异性膜,其包含权利要求1所述的至少一种化合物。
17.如权利要求16所述的光学各向异性膜,其中所述膜通过在基底上沉淀包含至少一种感胶离子发色化合物的溶致液晶体系而形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980112284.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。